[发明专利]自动聚焦方法和自动聚焦设备

权利要求书

1.自动聚焦方法，其中，来自光源(12)的光被聚焦在样品(6)中的测量光焦(52)处并且从该处被反射，反射光在两条光径(48，50)中被引导穿过光学系统(22)到达至少两个检测器元件(72，74)上，

其特征在于，在不同程度地反射光的样品(6)的各层中移动测量光焦(52)，并且检测器元件(72，74)被设置成在这种情况下使得由各个检测器元件登记(72，74)的辐射属性分布彼此不同，并且按照与所述分布相关的方式设定聚焦位置。

2.根据权利要求1的方法，

其特征在于，反射光被引导穿过设置在光学系统(22)的光轴(20)之外的至少一个孔径(46)。

3.根据权利要求1或2的方法，

其特征在于，从测量光焦(52)反射的来自全部两条光径(48，50)的光以相等的程度照在检测器元件(72，74)上。

4.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，从测量光焦(52)上方或下方反射的光以不相等的程度照在检测器元件(72，74)上。

5.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，通过光学装置根据不同的光学路径长度来选择从不同界面层(64，66)反射的光。

6.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，通过光学装置根据朝向检测器元件(72，74)的不同方向来选择从不同界面层(64，66)反射的光。

7.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，各条光径(48，50)通过被遮蔽区域彼此分离。

8.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，各条光径(48，50)中的光具有不同的光谱属性，并且各条光径(48，50)根据所述光谱属性在检测器元件(72，74)前方被分离。

9.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，所述分布被连续检测。

10.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，光学系统(22)的对焦被调节成使得各个检测器元件(72，74)的信号(76，78)彼此具有固定比例并且特别地具有相等的强度。

11.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，在反射光的界面层(66)上调节测量光焦(52)，其后垂直于光学系统(22)的光轴(20)移动样品(6)，并且随后检查检测器元件(72，74)的信号(76，78)关于在反射界面层(66)上仍然有效的粗略调节的可信性。

12.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，反射光被引导穿过在其形状方面对应于光源(12)的形状的至少一个孔径(46)。

13.根据在前权利要求之一的方法，

其特征在于，光源(12)具有被投影在样品(6)中的一定光模式，其中检测分别通过光径(48，50)分开的反射自所述光模式的几个模式点的光。

14.根据权利要求13的方法，

其特征在于，从所述几个模式点的几个目标位置检测反射界面层(66)的倾斜。

15.自动聚焦设备(2)，其具有用于把光聚焦在样品(6)中的测量光焦(52)处并且用于把反射自该处的光引导到至少两个检测器元件(72，74)上的光学系统(22)，

其特征在于致动器(38)和控制装置(10)，其用于通过致动器(38)相对于样品(6)移动光学系统(22)的元件(36)，从而使得在样品(6)的不同程度地反射光的各层中移动测量光焦(52)，其中检测器元件(72，74)被设置成使得在这种情况下，由各个检测器元件(72，74)登记的辐射属性的分布不同，并且所述控制装置(10)被提供来评估测量光焦(52)的几个位置处的所述分布(72，74)。