[发明专利]发光二极管以及用于制造发光二极管的方法无效
申请号: | 201080018556.3 | 申请日: | 2010-03-25 |
公开(公告)号: | CN102414849A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 文森特·格罗利尔;马格纳斯·阿尔斯泰特;米卡埃尔·阿尔斯泰特;迪特尔·艾斯勒 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/44;H01L33/50;H01L33/38 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王萍;李春晖 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 以及 用于 制造 方法 | ||
1.一种发光二极管,具有:
-半导体本体(1),其中半导体本体(1)包括设计用于产生辐射的有源区(11),
-支承体本体(2),其在半导体本体(1)的上侧(1a)上固定在半导体本体(1)上,其中支承体本体(2)包括发光转换材料,尤其是由陶瓷发光转换材料构成,
-镜层(3),其在半导体本体(1)的背离上侧(1a)的下侧(1b)上施加到半导体本体(1),以及
-两个接触层(4a,4b),其中所述接触层的第一接触层(4a)与半导体本体(1)的n导电区域(13)连接,而所述接触层的第二接触层(4b)与半导体本体(1)的p导电区域(12)导电连接。
2.根据上一权利要求所述的发光二极管,其中将至少一个沟道(9)从所述接触层(4a,4b)的至少之一引入半导体本体(1)和/或引向半导体本体(1),所述沟道以导电材料(91)填充,所述材料与半导体本体(1)和所述接触层(4a,4b)之一导电连接。
3.根据上一权利要求所述的发光二极管,其中所述至少一个沟道(9)穿过镜层(3)。
4.根据上述两个权利要求之一所述的发光二极管,其中所述至少一个沟道(9)穿过支承体本体(2)。
5.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中在工作中在有源区(11)中产生的电磁辐射能够仅仅通过支承体本体(2)离开发光二极管。
6.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中支承体本体(2)的至少一个侧面(2c)与半导体本体(1)的至少一个侧面(1c)齐平地结束。
7.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中盖层(5)完全覆盖半导体本体(1)的至少一个侧面(1c)。
8.根据上一权利要求所述的发光二极管,其中盖层(5)侧向地遮盖支承体本体(2)和/或镜层(3)。
9.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中支承体本体(2)由陶瓷发光转换材料构成。
10.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中耦合输出结构(6)设置在半导体本体(1)和支承体本体(2)之间,其中耦合输出结构(6)和半导体本体(1)的材料的折射率彼此偏差最多30%。
11.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中耦合输出结构(6)的材料不同于半导体本体(1)的材料,并且耦合输出结构(6)的材料包含以下材料之一或者由其构成:TiO2、ZnS、AlN、SiC、BN、Ta2O5。
12.根据上述权利要求之一所述的发光二极管,其中在半导体本体(1)和支承体本体(2)之间设置有连接单元(7),其建立半导体本体(1)和支承体本体(2)之间的机械连接。
13.根据上一权利要求所述的发光二极管,其中连接单元(7)的折射率与半导体本体(1)的折射率偏差至少30%。
14.根据上述两个权利要求之一所述的发光二极管,其中连接单元(7)将耦合输出结构(6)在其暴露的外表面上围绕。
15.一种用于制造发光二极管的方法,具有带有以下顺序的以下步骤:
-提供半导体本体(1),
-在半导体本体(1)的上侧(1a)上施加支承体本体(2),
-剥离半导体本体(1)的生长衬底(14),
-在半导体本体(1)的背离支承体本体(2)的下侧(1b)上产生镜层(3),
-产生穿过镜层(3)和/或支承体本体(2)进入半导体本体(1)和/或去向半导体本体(1)的沟道(9),
-用导电材料(91)填充沟道(9)
-构建接触层(4a,4b),其中接触层(4a,4b)与导电材料(91)导电连接。
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