[发明专利]脱模性组合物及表面保护膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种脱模性组合物及使用其的表面保护膜。尤其时涉及可形成脱模性及脱模持续性优异的涂膜的脱模性组合物，及具有含有该固化物的涂膜的表面保护膜。作为本发明的固化物的涂膜及表面保护膜，在印刷基板制作步骤等中，可在使具有粘合性的光致抗蚀剂曝光时的原稿(光掩模)的表面等上形成或贴合而使用。

背景技术

通常印刷电路板或树脂凸版是在液态光致抗蚀剂等的具有粘合性的光致抗蚀剂上附着光掩模并曝光而制作。因此，若光掩模的表面未实施任何处理，则在曝光结束后由光致抗蚀剂剥离光掩模时，光致抗蚀剂的一部分会附着于光掩模表面上。附着的光致抗蚀剂的一部分即使擦拭亦会残留于光掩模上，而产生导致曝光精度下降的问题。就这样的状况而言，一直以来，在光掩模的面向光致抗蚀剂的面上形成具有脱模性的涂膜，或者贴合设有这样的涂膜的表面保护膜，以防止光致抗蚀剂附着在光掩模上(专利文献1、专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-273412号公报(段落编号0008)

专利文献2：日本特开2005-181565号公报(段落编号0005)

发明内容

发明要解决的课题

具有这样的脱模性的涂膜大多为在粘合剂树脂中包含硅油作为脱模性成分。在这样的涂膜中，在粘合剂树脂与硅油的相容性不良的组合的情况下，有涂膜白化，引起曝光障碍的问题。

另一方面，在粘合剂树脂与硅油的相容性为良好的组合的情况下，虽涂膜不会白化而获得透明性，但由于硅油埋没于粘合剂树脂中，故难以获得脱模性。另外，若添加硅油直到可在涂膜表面获得脱模性，则由于无法保持涂膜强度，或者添加大量硅油，故以洗净溶剂清洁时，有脱模性降低的问题。

因此，本发明一方面提供一种具有透明性且可在涂膜表面上形成难以附着光致抗蚀剂的涂膜的脱模性组合物，及具有含有该固化物的涂膜的表面保护膜。而另一方面提供一种可形成经过长时间也难以附着光致抗蚀剂，且使脱模性持续的涂膜的脱模性组合物，以及具有含有该固化物的涂膜的表面保护膜。

进而，另一方面，提供一种可形成即使利用洗净溶剂也不使脱模性降低的涂膜的脱模性组合物，以及具有含有该固化物的涂膜的表面保护膜。

用于解决课题的方法

本发明人等精心研究的结果，发现通过使对粘合剂树脂与硅油添加金属醇盐的水解物而成的组合物固化形成涂膜，由此即使在硅油与粘合剂树脂的相容性为良好的情况，仍可对涂模显示脱模性，并完成了本发明。

即，本发明的脱模性组合物的特征在于，包含粘合剂树脂、硅油、及金属醇盐的水解物。

本发明的固化物的特征在于，使上述脱模性组合物固化而获得。

本发明的表面保护膜的特征在于，具有由上述固化物构成的涂膜。

本发明的光掩模的特征在于，隔着粘合层贴合上述表面保护膜。

发明效果

本发明的脱模性组合物可形成具有透明性且难以在涂膜表面上附着光致抗蚀剂的涂膜(固化物)。另外，可形成经过长时间也难以附着光致抗蚀剂，且使脱模性持续的涂膜。另外，可形成即使利用洗净溶剂也不使脱模性降低的涂膜。

另外，通过使用本发明的表面保护膜，可获得聚有透明性且难以附着光致抗蚀剂的光掩模。另外，可获得经过长时间也难以附着光致抗蚀剂，且使脱模性持续的光掩模。另外，可获得即使利用洗净溶剂也不使脱模性降低的光掩模。

具体实施方式

针对本发明的脱模性组合物的实施方式加以说明。本发明的脱模性组合物包含粘合剂树脂、硅油、及金属醇盐的水解物。

作为构成本发明的脱模性组合物的粘合剂树脂，可使用聚氯乙烯、聚碳酸酯、丙烯酸树脂、聚甲基丙烯酸丁酯、聚酯、聚砜、聚苯醚、聚丁二烯、烃树脂、酮树脂、苯氧树脂、聚酰胺、乙基纤维素、乙酸乙烯酯、ABS树脂、聚氨酯、三聚氰胺树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯乙缩醛等的树脂。尤其是，使用与反应性硅油的相容性良好的硅酮树脂可使涂膜的透明性良好，故优选。

作为硅酮树脂，可使用环氧基改性的硅酮树脂、醇酸改性的硅酮树脂、聚酯改性的硅酮树脂、丙烯酸改性的硅酮树脂、甲基系硅酮树脂、甲基苯基系硅酮树脂等。尤其时从涂膜硬度或耐溶剂性的观点出发，优选使用环氧基改性的硅酮树脂。