[发明专利]连铸用的结晶器有效

专利信息
申请号: 201080018864.6 申请日: 2010-04-20
公开(公告)号: CN102421944A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: E·埃弗兹;R·埃弗兹;S·埃弗兹 申请(专利权)人: 埃贡埃弗兹两合公司(有限公司及两合公司)
主分类号: C25D5/12 分类号: C25D5/12;C25D5/48;C25D7/00;C25D15/02;C25D15/00;B22D11/059
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 俞海舟
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 连铸用 结晶器
【权利要求书】:

1.金属或者金属合金连铸用的铜结晶器或者铜结晶器板,其包含在结晶器内壁上的或在面向连续铸锭的结晶器板侧上的镀层,其特征在于是通过电解敷设的铜层。

2.按照权利要求1的铜结晶器或者铜结晶器板,其特征在于,铜层具有1mm至25mm、优选3mm至15mm的厚度。

3.按照权利要求1或2的铜结晶器或者铜结晶器板,其特征在于,该铜层与基体相比具有较大的硬度。

4.按照权利要求1至3中一项的铜结晶器或者铜结晶器板,其特征在于,在所述铜层中嵌入SiC颗粒。

5.按照权利要求4的铜结晶器或铜结晶器板,其特征在于,SiC颗粒具有0.3μm至1μm的粒度。

6.按照权利要求4或5中一项的铜结晶器或铜结晶器板,其特征在于,SiC颗粒在铜层中的体积百分比为至少5%且最大为15%。

7.连铸用的铜结晶器或铜结晶器板的加工方法,其中,通过机械方式铲平由于连铸被磨损的内面,直至磨损刮痕的最大深度,并且接着对其重新进行镀层,其特征在于,使用铜作为镀层材料,该铜通过电解敷设,优选敷设厚度为1mm至25mm。

8.按照权利要求7的方法,其特征在于,铜结晶器或者铜结晶器板的多个部分设有附加的镍外层。

9.按照权利要求7或8中一项的方法,其特征在于,通过强化滚压对已敷设的层进行后续处理。

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