[发明专利]激光反射掩模以及其制造方法

权利要求书

1.一种激光反射掩模，其特征在于，包括；

基板，其在激光束的反射区域形成预定深度的反射膜填充凹槽；以及

反射膜图案，其被填充在上述反射膜填充凹槽中，

其中，上述反射膜图案通过交替重复层叠由二氧化硅膜形成的第一反射膜和反射率比第一反射膜高的第二反射膜而构成。

2.如权利要求1所述的激光反射掩模，其特征在于，

上述基板是在玻璃基板、熔融硅石基板、石英基板、合成石英基板以及氟化钙基板中选择的一种。

3.如权利要求1所述的激光反射掩模，其特征在于，

在上述基板的底面形成有反射防止膜。

4.如权利要求1所述的激光反射掩模，其特征在于，

上述第二反射膜是在由氟化镁膜、二氧化钛膜、氧化铝膜、五氧化二钽膜、氟化铈膜、硫化锌膜、氟化铝膜、氧化铪膜以及氧化锆膜组成的组中选择的一种。

5.如权利要求1所述的激光反射掩模，其特征在于，

在上述基板和上述反射膜图案上部追加形成保护膜，其在利用上述激光反射掩模进行图案化工序时，用于防止由蚀刻溶液导致的掩模的损伤。

6.一种激光反射掩模的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基板上部形成牺牲膜；

通过上述对基板上的预定为激光束的反射区域的区域进行蚀刻工序，而使上述牺牲膜和上述基板凹进，从而形成牺牲膜图案和预定深度的反射膜填充凹槽；

在形成有上述牺牲膜图案以及反射膜填充凹槽的基板上部，交替重复层叠具有不同的反射率的第一反射膜和第二反射膜直至上述反射膜填充凹槽能够完全被填充；

从上述基板的底面方向照射激光束至上述基板，进行去除上述牺牲膜图案以及层叠在上述牺牲膜图案上部的上述第一反射膜和第二反射膜的激光剥离工序，从而形成填充在上述反射膜填充凹槽中的反射膜图案；以及

去除残留在上述基板上部的上述牺牲膜图案。

7.一种激光反射掩模的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基板上部形成牺牲膜；

通过上述对基板上的预定为激光束的反射区域的区域进行蚀刻工序，而使上述牺牲膜和上述基板凹进，从而形成牺牲膜图案和预定深度的反射膜填充凹槽；

在形成有上述牺牲膜图案以及反射膜填充凹槽的基板上部，交替重复层叠具有不同的反射率的第一反射膜和第二反射膜；

利用化学剥离工序形成填充在上述反射膜填充凹槽中的反射膜图案，其中，化学剥离工序是指通过蚀刻工序去除上述牺牲膜图案，并去除层叠在上述牺牲膜图案上部的上述第一反射膜和第二反射膜；以及

去除残留在上述基板上部的上述牺牲膜图案。

8.如权利要求6或者7所述的激光反射掩模的制造方法，其特征在于，

上述牺牲膜形成为由铬、钼、铝、铜以及金组成的组中选择的任何一种材料的金属层或者两种以上的不同金属层的层叠结构。

9.如权利要求8所述的激光反射掩模的制造方法，其特征在于，

在上述牺牲膜形成为两种以上的不同金属层的层叠结构时，与上述基板的表面上部直接接触的最底层的金属层由铬或者钼形成。

10.如权利要求6或者7所述的激光反射掩模的制造方法，其特征在于，

上述第一反射膜是二氧化硅膜。

11.如权利要求10所述的激光反射掩模的制造方法，其特征在于，

上述第二反射膜是在由氟化镁膜、二氧化钛膜、氧化铝膜、五氧化二钽膜、氟化铈膜、硫化锌膜、氟化铝膜、氧化铪膜以及氧化锆膜组成的组中选择的一种。

12.如权利要求6或者7所述的激光反射掩模的制造方法，其特征在于，

在去除残留在上述基板上部的上述牺牲膜图案之后，

在上述基板以及上述反射膜图案上部，利用上述激光反射掩模进行图案化时，为了防止由蚀刻溶液导致的掩模的损伤，而追加形成保护膜。