[发明专利]涂层方法

权利要求书

1.一种用于向衬底施加抗磨损涂层的方法，其包含以下步骤：

产生包含大气等离子体；

向所述大气等离子体引入前体，选择所述前体从而形成所述抗磨损涂层；以及

相对于所述大气等离子体定位所述衬底，以便所述大气等离子体在所述衬底上沉积所述抗磨损涂层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗磨损涂层为硅碳氧化物涂层。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述衬底为拉伸丙烯酸。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述大气等离子体为大气氧等离子体。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述产生步骤包括向大气等离子装置引入保护气体流和等离子源气体流。

6.根据权利要求5所述的方法，其进一步包含改变所述等离子源气体流和所述前体的体积比的步骤，从而操作所述抗磨损涂层的物理性质。

7.根据权利要求5所述的方法，其中所述保护气体流包括氦气和氩气中的至少一种，并且所述等离子源气体流包括分子气体。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述前体被引入运载气体中的所述大气等离子体。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述前体包括环状有机硅氧烷。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述前体包括四甲基四乙烯基环四硅氧烷。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述前体包括八甲基环四硅烷。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述大气等离子体由大气等离子装置产生，并且所述定位步骤包括在所述衬底和所述大气等离子装置之间保持不变的间距。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述大气等离子装置被安装在机器人装置上，并且通过所述机器人装置保持所述不变的间距。

14.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在所述定位步骤前清洁所述衬底的步骤。

15.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含以氧气等离子体处理所述衬底的步骤，其在所述定位步骤前基本无所述前体。