[发明专利]用于加热放置于灶台上的烹调容器的灶台及方法

权利要求书

1.一种灶台，用于加热能在预给定的平面区域中在放置板(4)上放置在所述灶台上的一个或多个烹调容器(7)，所述烹调容器例如是锅、平底锅等，

所述灶台优选具有检测装置(8)，用于检测至少一个烹调容器(7)在所述灶台上的位置，其特征在于，

所述灶台具有辐射源(9)，用于产生光束，所述辐射源是能移动的或者所述辐射源的光束能通过能移动的偏转装置(12)偏转到所述放置板(4)的背离烹调容器的侧面上，和/或

所述检测装置具有传感器装置(8)，用于检测被所述放置板(4)反射的光束的反射图像。

2.如权利要求1所述的灶台，其特征在于，

所述烹调容器(7)能自由地放置在所述平面区域(G)内。

3.如权利要求1或2所述的灶台，其特征在于，所述辐射源(9)是激光器。

4.如权利要求1或2所述的灶台，其特征在于，所述辐射源是红外光源。

5.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，所述传感器装置(8)是摄像机。

6.如权利要求5所述的灶台，其特征在于，所述传感器装置(8)是数字摄像机。

7.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，所述传感器装置(8)连接到控制装置，所述控制装置根据传感器信号确定所述烹调容器(7)的位置并且根据确定结果控制所述辐射源(9)和/或所述偏转装置(12)，使得所产生的光束对准所述烹调容器所位于的平面区域。

8.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，利用所述传感器装置(8)能确定所述放置板上多个烹调容器的位置，并且利用所述辐射源(9)能交替地加热这多个烹调容器。

9.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，所述辐射源的光束还能偏转到烤箱中的烹调物上，所述烤箱设置在所述灶台下面或者所述灶台旁边。

10.一种烹调设备，具有如前述权利要求之一所述的灶台。

11.一种用于控制和/或调节如前述权利要求之一所述的灶台的方法，其特征在于，利用传感器装置(9)确定所述灶台上烹调容器(7)的位置，和/或利用辐射源(9)加热所述灶台上的一个烹调容器或根据预给定的模式交替地加热所述灶台上的多个烹调容器，所述辐射源尤其是激光器。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述辐射源的光束用于加热烹调容器并且用于确定烹调容器在所述灶台上的位置。

13.如权利要求11或12所述的方法，其特征在于，能够在没有放置烹调容器的情况下手动地在放置面(4)上在平面区域(G)内预先确定烹调容器(7)的位置。

14.激光器的一种用途，用于加热放置在烹调设备的至少一个灶台的放置板上的一个或多个烹调容器(7)。