[发明专利]包含草甘膦和烷氧基化甘油酯的除草配制剂

权利要求书

1.一种除草配制剂，其包含至少一种除草活性化合物和包含至少一种烷氧基化甘油单酯、至少一种烷氧基化甘油二酯或烷氧基化甘油单酯和二酯的混合物的表面活性剂，条件是所述除草活性化合物不是磺酰脲类化合物。

2.一种除草配制剂，其包含草甘膦或其盐和包含至少一种烷氧基化甘油单酯、至少一种烷氧基化甘油二酯或烷氧基化甘油单酯和二酯的混合物的表面活性剂。

3.根据权利要求1或2的配制剂，其中所述至少一种烷氧基化甘油单酯、至少一种烷氧基化甘油二酯或其混合物包括对应于下式的甘油单酯和二酯：

1-甘油单酯

；

2-甘油单酯

；

1，2-二甘油酯

；和/或

1，2-二甘油酯

其中R¹、R⁴和R⁵各自独立地选自C₈-C₂₂直链或支化，饱和或不饱和脂族基团；R²、R³和R⁶各自独立地选自H和低级烷基、低级链烯基或芳基；且A¹、A²和A³各自独立地为碳-氧键或取向以具有键合在C上的末端O和键合在O上的末端C且含有0-200个氧化烯单元的氧化烯基团，其中氧化烯单元各自独立地选自-[OCH₂]-、-[OC₂H₄]-、-[OC₃H₆]-和-[OC₄H₈]-，所述烷氧基化甘油单酯和二酯各自含有总计5-200个氧化烯单元。

4.根据权利要求1或2的配制剂，其中所述至少一种烷氧基化甘油单酯、至少一种烷氧基化甘油二酯或其混合物包括对应于下式的甘油单酯和二酯：

1-甘油单酯

；

2-甘油单酯

；

1，2-甘油二酯

；和/或

1，3-甘油二酯

其中R¹、R⁴和R⁵各自独立地选自C₈-C₂₂直链或支化，饱和或不饱和脂族基团，或下式基团：

R¹⁰-[OA]w-R¹¹，其中：

(i)R¹⁰键合在酰基的碳上，(ii)R¹⁰各自选自C₈-C₂₂直链或支化，饱和或不饱和脂族基团，(iii)A各自相同或不同且选自C₁-C₄直链或支化烷基，其中w为1-100，且(iv)R¹¹各自选自氢和C₈-C₂₂直链或支化，饱和或不饱和脂族基团；R²、R³和R⁶各自独立地选自H和低级烷基、低级链烯基或芳基；且A¹、A²和A³各自独立地为碳-氧键或取向以具有键合在C上的末端O和键合在O上的末端C且含有0-200个氧化烯单元的氧化烯基团，其中氧化烯单元各自独立地选自-[OCH₂]-、-[OC₂H₄]-、-[OC₃H₆]-和-[OC₄H₈]-，所述烷氧基化甘油单酯和二酯各自含有总计5-200个氧化烯单元。

5.根据权利要求4的配制剂，其中w为1-75，1-50，1-30或1-15。

6.根据权利要求3-5中任一项的配制剂，其中A¹、A²和A³各自独立地为含1-100个氧化烯单元的氧化烯基团。