[发明专利]六边形型立方角回射物品有效

专利信息
申请号: 201080020740.1 申请日: 2010-05-10
公开(公告)号: CN102422186A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 三村育夫;雨宫圭司;小善贡 申请(专利权)人: 日本电石工业株式会社
主分类号: G02B5/124 分类号: G02B5/124;E01F9/015
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 六边形 立方 角回射 物品
【权利要求书】:

1.一种回射物品,其特征在于,

由多个六边形型立方角回射元件集合而形成,

所述六边形型立方角回射元件中,3个四边形形状的反射侧面(a面、b面以及c面)互相共有3根棱线(HD、HE以及HF)以及1个顶点(H),并由6个外周边(AE、EC、CD、DB、BF以及FA)区划而成,并且具有通过该顶点(H)且与该3个反射侧面(a面、b面以及c面)距离相等的光学轴,

至少一个反射侧面(a面、b面以及/或者c面)被分割成一对上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)和下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面),所述一对上部副反射侧面和下部副反射侧面被构成该反射侧面的顶点(E、F以及/或者D)所连结的线段(EF、FD以及/或者DE)所区划,并且,构成该副反射侧面对的2个副反射侧面不在同一个平面上。

2.如权利要求1所述的回射物品,其特征在于,

该六边形型立方角回射元件的光学轴相对于从该反射元件的顶点(H)向该回射物品的共通平面引出的垂线倾斜3~15度。

3.如权利要求1或2所述的回射物品,其特征在于,

所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)与下部副反射侧面(a2面,b2面以及/或者c2面)所形成的副侧面之间的角度为0.008~0.33度。

4.如权利要求1~3中任意一项所述的回射物品,其特征在于,

所述副反射侧面的副侧面角,与邻接的回射元件的对应的副反射侧面的副侧面角相差0.008~0.33度。

5.如权利要求1~4中任意一项所述的回射物品,其特征在于,

所述副侧面角与邻接的回射元件的对应的副反射侧面的副侧面角相差0.008~0.33度,并以2个以上的副侧面角的组合进行周期性的变化。

6.如权利要求1~5中任意一项所述的回射物品,其特征在于,

在所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)与下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面)之间设置有不形成立方角的面(E1-E2-F2-F1、F1-F2-D2-D1以及/或者D1-D2-E2-E1)。

7.如权利要求1~6中任意一项所述的回射物品,其特征在于,

所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)以及/或者下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面)进一步被分割成2个以上的平面。

8.如权利要求1~7中任意一项所述的回射物品,其特征在于,

所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)以及/或者下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面)形成2次曲面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电石工业株式会社,未经日本电石工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080020740.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top