[发明专利]六边形型立方角回射物品有效
申请号: | 201080020740.1 | 申请日: | 2010-05-10 |
公开(公告)号: | CN102422186A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 三村育夫;雨宫圭司;小善贡 | 申请(专利权)人: | 日本电石工业株式会社 |
主分类号: | G02B5/124 | 分类号: | G02B5/124;E01F9/015 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 六边形 立方 角回射 物品 | ||
1.一种回射物品,其特征在于,
由多个六边形型立方角回射元件集合而形成,
所述六边形型立方角回射元件中,3个四边形形状的反射侧面(a面、b面以及c面)互相共有3根棱线(HD、HE以及HF)以及1个顶点(H),并由6个外周边(AE、EC、CD、DB、BF以及FA)区划而成,并且具有通过该顶点(H)且与该3个反射侧面(a面、b面以及c面)距离相等的光学轴,
至少一个反射侧面(a面、b面以及/或者c面)被分割成一对上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)和下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面),所述一对上部副反射侧面和下部副反射侧面被构成该反射侧面的顶点(E、F以及/或者D)所连结的线段(EF、FD以及/或者DE)所区划,并且,构成该副反射侧面对的2个副反射侧面不在同一个平面上。
2.如权利要求1所述的回射物品,其特征在于,
该六边形型立方角回射元件的光学轴相对于从该反射元件的顶点(H)向该回射物品的共通平面引出的垂线倾斜3~15度。
3.如权利要求1或2所述的回射物品,其特征在于,
所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)与下部副反射侧面(a2面,b2面以及/或者c2面)所形成的副侧面之间的角度为0.008~0.33度。
4.如权利要求1~3中任意一项所述的回射物品,其特征在于,
所述副反射侧面的副侧面角,与邻接的回射元件的对应的副反射侧面的副侧面角相差0.008~0.33度。
5.如权利要求1~4中任意一项所述的回射物品,其特征在于,
所述副侧面角与邻接的回射元件的对应的副反射侧面的副侧面角相差0.008~0.33度,并以2个以上的副侧面角的组合进行周期性的变化。
6.如权利要求1~5中任意一项所述的回射物品,其特征在于,
在所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)与下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面)之间设置有不形成立方角的面(E1-E2-F2-F1、F1-F2-D2-D1以及/或者D1-D2-E2-E1)。
7.如权利要求1~6中任意一项所述的回射物品,其特征在于,
所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)以及/或者下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面)进一步被分割成2个以上的平面。
8.如权利要求1~7中任意一项所述的回射物品,其特征在于,
所述上部副反射侧面(a1面、b1面以及/或者c1面)以及/或者下部副反射侧面(a2面、b2面以及/或者c2面)形成2次曲面。
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