[发明专利]除草剂化合物

权利要求书

1.化学结构式(I)的一种化合物

其中R¹和R²是独立的氢、卤素、氰基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈卤烷基、羟基、C₁-C₈烷氧基、硫醇或C₁-C₈烷硫基；R^3a和R^3b是独立的氢、卤素、氰基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈烷氧基-C₁-C₄烷基；C₁-C₈卤烷基、C₂-C₈烯基、C₂-C₈卤烯基、C₂-C₈炔基、C₂-C₈卤炔基、C₃-C₁₀环烷基、C₃-C₁₀环烷基-C₁-C₄烷基、杂环基、杂环基-C₁-C₄烷基或C₁-C₈烷氧羰基；或R^3a和R^3b连同它们连接的碳原子一起形成一个3元至10元碳环或一个3元至10元杂环；R⁴是芳基或一至五个R⁶取代的芳基，或杂芳基或一至五个R⁶取代的杂芳基；R⁵是羟基或可被代谢成羟基的基团；每个R⁶是独立的卤素、氰基、硝基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈烷氧基-C₁-C₄烷基、C₁-C₈卤烷基、C₁-C₈卤烷氧基-C₁-C₄烷基、羟基、C₁-C₈烷氧基、C₁-C₈卤烷氧基、硫醇、C₁-C₈烷硫基、C₁-C₈卤烷硫基、C₁-C₈烷基亚硫酰基、C₁-C₈卤烷基亚硫酰基、C₁-C₈烷基磺酰基、C₁-C₈卤烷基磺酰基、氨基、N-C₁-C₈烷基羰基氨基、N-C₁-C₈烷基-N-C₁-C₈烷基羰基氨基、N-C₁-C₈烷基磺酰基氨基、N-C₁-C₈烷基-N-C₁-C₈烷基磺酰基氨基、芳基或一至五个R⁷取代的芳基、杂芳基或一至五个R⁷取代的杂芳基、芳氧基或一至五个R⁷取代的芳氧基、杂芳氧基或一至五个R⁷取代的杂芳氧基、芳硫基或一至五个R⁷取代的芳硫基、或杂芳硫基或一至五个R⁷取代的杂芳硫基；每个R⁷是独立的卤素、氰基、硝基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈卤烷基、C₁-C₈烷氧基或C₁-C₈卤烷氧基；或其盐或N-氧化物。

2.根据权利要求1，其中R¹是氢、卤素或C₁-C₈烷基的一种化合物。