[发明专利]用于相衬成像的光栅在审

专利信息
申请号: 201080021691.3 申请日: 2010-05-17
公开(公告)号: CN102428522A 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: T·克勒;E·勒斯尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 成像 光栅
【权利要求书】:

1.一种用于X射线微分相衬成像的光栅,包括

-第一子光栅(112);和

-至少第二子光栅(114;116;118);

其中,所述子光栅各自包括以一节距(a)周期性布置的、具有棒状物(122)和间隙(124)的主体结构(120);

其中,所述子光栅(112;114;116;118)在X射线束的方向上连续布置;并且

其中,所述子光栅(112;114;116;118)垂直于所述X射线束彼此移位定位。

2.如权利要求1所述的光栅,其中,所述子光栅(112;114;116;118)的投影得到具有比所述子光栅的节距更小的有效节距(z)的有效光栅(130)。

3.如权利要求1或2所述的光栅,其中,所述子光栅(112;114;116;118)具有相同的节距。

4.如权利要求1或2所述的光栅,其中,所述子光栅之一的节距是所述子光栅中另一个的节距的倍数。

5.如前述权利要求之一所述的光栅,其中,所述子光栅具有相等的棒状物/间隙比率(s/t)。

6.如权利要求4所述的光栅,其中,所述移位的偏移量是所述节距(a)的一半的一部分。

7.如前述权利要求之一所述的光栅,其中,每个子光栅的高度在设计波长处引起π相移。

8.如前述权利要求之一所述的光栅,其中,所述子光栅布置在单晶片(111)上。

9.一种用于生成对象的相衬图像的X射线系统(10)的探测器布置(24),其具有

-X射线源(12;28);

-源光栅(32);

-相位光栅(34);

-分析器光栅(36);和

-探测器(16;38);

其中,所述X射线源(28)适于生成X射线的多色谱;并且其中,所述光栅(32,34,36)中的至少一个是根据前述权利要求之一所述的光栅。

10.一种用于生成对象(26)的相衬数据的X射线系统(10),其包括根据前一权利要求所述的探测器布置(24)。

11.一种用于检查感兴趣对象的相衬成像方法,所述方法包括以下步骤:

-将常规X射线源(28)的X射线辐射束施加(52)到源光栅(32)以将所述辐射束分束(54);

-将经分束的辐射束施加(56)到相位光栅(34)以将经分束的辐射束在分析器平面(62)中重组(60);

-将经重组的辐射束施加(66)到分析器光栅(38);

-在将所述分析器光栅在所述分析器光栅(36)的一个周期上横向步进(70)的同时用传感器(38)记录原始图像数据(66);

其中,所述光栅中的至少一个是根据权利要求1-8之一所述的光栅。

12.一种计算机可读介质,其中存储用于检查感兴趣对象的计算机程序,当被X射线系统的处理器执行时,所述计算机程序令所述系统执行以下步骤:

-将常规X射线源(28)的X射线辐射束施加(52)到源光栅(32)以将所述辐射束分束(54);

-将经分束的辐射束施加(56)到相位光栅(34)以将经分束的辐射束在分析器平面(62)中重组(60);

-将经重组的辐射束施加(66)到分析器光栅(38);

-在将所述分析器光栅在所述分析器光栅(36)的一个周期上横向步进(70)的同时用传感器(38)记录原始图像数据(66);

其中,所述光栅中的至少一个是根据权利要求1-8之一所述的光栅。

13.一种用于检查感兴趣对象的程序单元,当被X射线系统的处理器执行时,所述程序单元令所述系统执行以下步骤:

-将常规X射线源(28)的X射线辐射束施加(52)到源光栅(32)以将所述辐射束分束(54);

-将经分束的辐射束施加(56)到相位光栅(34)以将经分束的辐射束在分析器平面(62)中重组(60);

-将经重组的辐射束施加(66)到分析器光栅(38);

-在将所述分析器光栅在所述分析器光栅(36)的一个周期上横向步进(70)的同时用传感器(38)记录原始图像数据(66);

其中,所述光栅中的至少一个是根据权利要求1-8之一所述的光栅。

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