[发明专利]用于反向图案化的方法和材料

权利要求书

1.一种硅倍半氧烷树脂，包含以下单元：

(MeSiO_(3-x)/2(OR’)_x)_m

(RSiO_(3-x)/2(OR’)_x)_n

(R¹SiO_(3-x)/2(OR’)_x)_o

(SiO_(4-x)/2(OR’)_x)_p

(Ph(CH₂)_sSiO_(3-x)/2(OR’)_x)_q

其中Ph是苯基，Me是甲基；R’是氢原子或具有1至4个碳原子的烃基；R是含酸酐的基团，且R¹是亲水性基团或疏水性基团；且s具有0、1、2、3或4的值；x具有0、1或2的值；其中在所述树脂中，m具有0.1至0.95的值，n具有0.020至0.5的值；o具有0至0.5的值；p具有0至0.95的值；q具有0至0.5的值，且m+n+o+p+q＝1。

2.如权利要求1所述的硅倍半氧烷树脂，其中m具有0.2至0.85的值，n具有0.02至0.2的值，o具有0至0.15的值，p具有0至0.75的值，q具有0至0.15的值。

3.如权利要求1或2所述的硅倍半氧烷树脂，其中R¹选自取代的苯基、酯基、聚醚基团、巯基、脂族基团、脂环族基团和含氟烷基。

4.如权利要求1、2或3所述的硅倍半氧烷树脂，其中R是3-琥珀酸酐丙基。

5.一种在衬底上形成反向图案的方法，其中所述方法包括：

(I)将涂层组合物施用于第一图案化材料之上，其中所述涂层组合物包含：

(i)包含以下单元的硅倍半氧烷树脂：

(MeSiO_(3-x)/2(OR’)_x)_m

(RSiO_(3-x)/2(OR’)_x)_n

(R¹SiO_(3-x)/2(OR’)_x)_o

(SiO_(4-x)/2(OR’)_x)_p

(Ph(CH₂)_sSiO_(3-x)/2(OR’)_x)_q

其中Ph是苯基，Me是甲基；R’是氢原子或具有1至4个碳原子的烃基；R是含酸酐的基团，且R¹是亲水性基团或疏水性基团；且s具有0、1、2、3或4的值；x具有0、1或2的值；其中在所述树脂中，m具有0.1至0.95的值，n具有0.020至0.5的值；o具有0至0.5的值；p具有0至0.95的值；q具有0至0.5的值，且m+n+o+p+q＝1；以及

(ii)溶剂；以及

(iii)任选地，活化剂

(III)固化所述涂层组合物，以在所述第一图案化材料之上产生覆盖整个图案的固化的硅涂层；

(IV)部分除去所述固化的硅涂层，以暴露所述第一图案化材料的上表面；

(V)除去所述第一图案化材料，从而在所述固化的硅涂层中形成第二图案；以及

(VI)任选地，进一步将所述第二图案转印到任何下层上。

6.如权利要求5所述的方法，其中m具有0.2至0.85的值，n具有0.02至0.2的值，o具有0至0.15的值，p具有0至0.75的值，q具有0至0.20的值。

7.如权利要求5或6所述的方法，其中R¹选自取代的苯基、酯基、聚醚基团和巯基、脂族基团、脂环族基团和含氟基团。

8.如权利要求5、6或7所述的方法，其中R是3-琥珀酸酐丙基。