[发明专利]螺杂环特窗酸衍生物有效
申请号: | 201080022190.7 | 申请日: | 2010-05-18 |
公开(公告)号: | CN102439013A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | T·布雷特施奈德;R·菲舍尔;S·莱尔;O·马萨姆;A·沃斯特 | 申请(专利权)人: | 拜尔农作物科学股份公司 |
主分类号: | C07D491/10 | 分类号: | C07D491/10;C07D211/94;A01N43/90 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 苏萌;钟守期 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 螺杂环特窗酸 衍生物 | ||
1.式(I)化合物
其中
W代表氢、卤素、烷基、烯基、炔基、任选地被取代的环烷基、烷氧基、烯氧基、卤代烷基、卤代烷氧基或氰基,
X代表卤素、烷基、烯基、炔基、任选地被取代的环烷基、烷氧基、烯氧基、烷硫基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、卤代烷基、卤代烷氧基、卤代烯氧基、硝基或氰基,
Y和Z彼此独立地代表氢、烷基、烯基、炔基、任选地被取代的环烷基、烷氧基、卤素、卤代烷基、卤代烷氧基、氰基、硝基,或各自任选地被取代的芳基或杂芳基,
A代表或
B代表氢、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、烷氧基烷氧基烷基,代表各自任选地被取代的烯基、炔基,代表任选地被杂原子间断的环烷基烷基,代表苯基烷基、杂芳基烷基或代表来自G的一个潜在基团,
t代表数值0或1,
G代表氢(a)或以下基团之一
其中
E代表一种金属离子或一种铵离子,
L代表氧或硫,
M代表氧或硫,
R1代表各自任选被卤素或氰基取代的烷基、烯基、烷氧基烷基、烷硫w基烷基或多烷氧基烷基,或者代表各自任选被卤素、烷基或烷氧基取代的环烷基或杂环基,或代表各自任选被取代的苯基、苯基烷基、杂芳基、苯氧基烷基或杂芳氧基烷基,
R2代表各自任选被卤素或氰基取代的烷基、烯基、烷氧基烷基或多烷氧基烷基,或代表各自任选被取代的环烷基、苯基或苄基,
R3、R4和R5彼此独立地代表各自任选被卤素取代的烷基、烷氧基、烷氨基、二烷基氨基、烷硫基、烯硫基或环烷基硫基,或代表各自任选被取代的苯基、苄基、苯氧基或苯硫基,
R6和R7彼此独立地代表氢,代表各自任选被卤素或氰基取代的烷基、环烷基、烯基、烷氧基、烷氧基烷基,代表各自任选被取代的苯基或苄基,或与它们所连接的N原子一起形成一个任选被取代的环,该环任选含有氧或硫。
2.权利要求1的式(I)化合物,其中
W代表氢、卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,代表任选被C1-C2烷基、C1-C2烷氧基、氟、氯、三氟甲基或C3-C6环烷基单取代或二取代的C3-C6环烷基,代表C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基或氰基,
X代表卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,代表任选被C1-C2烷基、C1-C2烷氧基、氟、氯、三氟甲基或C3-C6环烷基单取代或二取代的C3-C6环烷基,代表C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C3-C6烯氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6卤代烯氧基、硝基或氰基,
Y和Z彼此独立地代表氢、卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,代表任选被C1-C2烷基、C1-C2烷氧基、氟、氯、三氟甲基或C3-C6环烷基单取代或二取代的C3-C6环烷基,代表C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、氰基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,或代表以下(杂)芳基之一
其中在(杂)芳基的情况下,基团Y或Z中只有一个可代表(杂)芳基,
V1代表氢、卤素、C1-C12烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、硝基、氰基,或代表苯基、苯氧基、苯氧基-C1-C4烷基、苯基-C1-C4烷氧基、苯硫基-C1-C4烷基或苯基-C1-C4烷硫基,其各自任选被卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、硝基或氰基单取代或多取代,
V2和V3彼此独立地代表氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基或C1-C4卤代烷氧基,
A代表或
B代表氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-C1-C4烷基,代表各自任选地被卤素取代的C3-C6烯基、C3-C6炔基,代表各自任选地被取代的苯基-C1-C4烷基、杂芳基-C1-C4烷基或可任选地被杂原子间断的C3-C6环烷基-C1-C4烷基,或代表来自G的一个潜在基团,
t代表数值0或1,
G代表氢(a)或代表以下基团之一
其中
E代表一种金属离子或一种铵离子,
L代表氧或硫,且
M代表氧或硫,
R1代表各自任选被卤素或氰基取代的C1-C20烷基、C2-C20烯基、C1-C8烷氧基-C1-C8烷基、C1-C8烷硫基-C1-C8烷基或多-C1-C8烷氧基-C1-C8烷基;或代表任选被卤素、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基取代的C3-C8环烷基,其中任选一个或两个不直接相邻的亚甲基基团被氧和/或硫替代,
代表任选被卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷硫基或C1-C6烷基磺酰基取代的苯基,
代表任选被卤素、硝基、氰基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基取代的苯基-C1-C6烷基,
代表任选被卤素或C1-C6烷基取代的具有一个或两个选自氧、硫和氮的杂原子的5元或6元杂芳基,
代表任选被卤素或C1-C6烷基取代的苯氧基-C1-C6烷基,
代表任选被卤素、氨基或C1-C6烷基取代的具有一个或两个选自氧、硫和氮的杂原子的5元或6元杂芳氧基-C1-C6烷基,
R2代表各自任选被卤素或氰基取代的C1-C20烷基、C2-C20烯基、C1-C8烷氧基-C2-C8烷基或多-C1-C8烷氧基-C2-C8烷基,
代表任选被卤素、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基取代的C3-C8环烷基,或
代表各自任选被卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基取代的苯基或苄基,
R3代表任选被卤素取代的C1-C8烷基,或者各自任选被卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、氰基或硝基取代的苯基或苄基,
R4和R5彼此独立地代表各自任选被卤素取代的C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基氨基、二(C1-C8烷基)氨基、C1-C8烷硫基或C3-C8烯硫基,或者代表各自任选被卤素、硝基、氰基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代的苯基、苯氧基或苯硫基,
R6和R7彼此独立地代表氢,代表各自任选被卤素或氰基取代的C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C1-C8烷氧基、C3-C8烯基或C1-C8烷氧基-C2-C8烷基,代表各自任选被卤素、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基或C1-C8烷氧基取代的苯基或苄基,或一起代表一个任选被C1-C6烷基取代的C3-C6亚烷基基团,其中任选一个亚甲基基团被氧或硫替代。
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