[发明专利]滑动式芯片装置和方法

权利要求书

1.一种用于进行反应的装置，所述装置包括：

具有第一表面的第一部分；

沿着所述第一表面的一部分设置的至少一个第一区域，所述至少一个第一区域构造成保持至少一种第一物质；

具有与所述第一表面相对的第二表面的第二部分；以及

沿着所述第二表面的一部分设置的至少一个第二区域，所述至少一个第二区域构造成保持至少一种第二物质，其中所述第一部分的第一表面和所述第二部分的第二表面中的至少一个表面构造成相对于另一个表面在第一位置和第二位置之间运动，在第一位置所述至少一个第一区域不暴露于所述至少一个第二区域，在第二位置所述至少一个第一区域之一仅暴露于所述至少一个第二区域之一，并形成封闭系统。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述装置处于第一位置，并且所述至少一个第一区域中的至少一个包含流体样品。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述装置处于第一位置，并且所述至少一个第二区域中的至少一个包含流体样品。

4.根据权利要求2或3所述的装置，其中所述流体样品包含核酸、酶、聚合酶、抗体、细菌、结晶剂、蛋白、肽和哺乳动物细胞中的至少一种。

5.根据权利要求2或3所述的装置，该装置还包含不能与第一流体样品溶混的第二流体样品。

6.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，其中所述第一部分的第一表面和所述第二部分的第二表面中的所述至少一个表面构造成相对于所述另一个表面从第一位置向第二位置运动。

7.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，其中所述第一部分的第一表面和所述第二部分的第二表面中的所述至少一个表面构造成相对于所述另一个表面从第二位置向第一位置运动。

8.根据权利要求1所述的装置，该装置还包括：

具有第三表面的第三部分；

所述第二部分上的第四表面，

其中所述至少一个第二区域的一部分沿着所述第四表面设置，并且

其中所述第三表面与所述第四表面相对；以及

沿着所述第三表面的一部分设置的至少一个第三区域，所述至少一个第三区域构造成保持至少一种第三物质，其中所述第三部分的第三表面和所述第二部分的第四表面中的至少一个表面构造成相对于另一个表面在第三位置和第四位置之间运动，在第三位置所述至少一个第三区域不暴露于所述至少一个第二区域，在第四位置所述至少一个第三区域之一仅暴露于所述至少一个第二区域之一，并形成封闭系统。

9.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，其中所述第一部分的第一表面和所述第二部分的第二表面中的所述至少一个表面构造成当从第一位置向第二位置运动时，沿着基本垂直于所述第一部分的第一表面的法线的方向运动。

10.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，该装置包括至少两个第一区域和至少两个第二区域，其中当处于第二位置时，所述至少两个第二区域中的一个同时暴露于所述至少两个第一区域。

11.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，该装置包括以第一图案排列的第一组多个第一区域和以互补图案排列的多个第二区域，其中从第一位置向第二位置的运动允许所述第一组多个第一区域中的至少一个区域暴露于相应的第二区域。

12.根据权利要求11所述的用于进行反应的装置，其中所述第一区域的数量等于所述第二区域的数量，所述第一区域的数量大于所述第二区域的数量，或者所述第一区域的数量小于所述第二区域的数量。

13.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，其中至少两个所述区域的体积不同。

14.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，该装置还包括设置在所述第一表面和所述第二表面之间的基质。

15.根据权利要求1所述的用于进行反应的装置，其中所述第一区域包括形成在其中的通孔。

16.根据权利要求8所述的用于进行反应的装置，该装置还包括以第二图案排列的第二组多个第一区域，其中从第二位置向第三位置的相对运动允许第二组多个第一区域中的至少一个暴露于至少一个第二区域。