[发明专利]异氰脲酸三烯丙酯的储藏方法有效
申请号: | 201080022771.0 | 申请日: | 2010-05-20 |
公开(公告)号: | CN102449001A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 山浦真生子 | 申请(专利权)人: | 日本化成株式会社 |
主分类号: | C08F26/06 | 分类号: | C08F26/06;C07D251/26;C07D251/34;C08K5/3492 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 异氰脲酸三烯丙酯 储藏 方法 | ||
技术领域
本发明涉及异氰脲酸三烯丙酯的储藏方法。以下,将异氰脲酸三烯丙酯(三烯丙基异氰脲酸酯)记作“TAIC”。
背景技术
TAIC作为耐热性和耐药品性优异的交联剂是有用的,期待使用于电子材料、液晶、半导体、太阳能电池等宽领域中。例如,提出在印刷配线基板,即,在表面固定集成电路、电阻器、电容器等多个电子零件,以配线连接其零件之间而构成电子回路的板状或膜状的零件中,作为用于阻止液体和气体等物质进入零件内部的密封材料而使用TAIC(专利文献1)。在该方案中,因为TAIC在常温下是粘性液体(熔点26℃),所以作为液态密封材料被使用。另外,为了提高其润湿性而添加硅烷偶联剂。另外,TAIC也可以作为交联性高分子的交联剂使用(专利文献2)。
但是,由于TAIC的熔点是26℃,所以,在冬季储藏中冻结固化,特别是在比较大型的容器(鼓形桶)中储藏时,存在加热熔融相当耗时的缺陷。此外,如果TAIC的处理温度变低,粘度就会迅速上升,操作性恶化。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2007-115840号公报
专利文献2:日本专利特开2006-036876号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明就是鉴于上述实际情况而做出的发明,其目的在于提供一种用于防止在冬季储藏中冻结固化的TAIC储藏方法。
用于解决课题的方法
本发明的发明人为了达到上述目的而进行了深入研究,结果得到以下见解,即,在使用TAIC时,作为濡湿性提高剂而添加硅烷偶联剂,但如果在TAIC使用前,在TAIC的储藏时添加该硅烷偶联剂,则TAIC的熔点下降,能够防止TAIC在冬季储藏中冻结固化,从而完成本发明。
本发明就是基于上述见解而完成的发明,其要点在于一种异氰脲酸三烯丙酯的储藏方法,其特征在于,混合异氰脲酸三烯丙酯和硅烷偶联剂,作为两者的组合物储藏。
发明的效果
根据本发明,能够防止TAIC在冬季储藏中的冻结固化,因此,在冬季,可以不用进行加热熔融的作业而处理TAIC,另外,由于所储藏的TAIC不呈现高粘度,所以处理时的操作性良好。
具体实施方式
以下,详细说明本发明。
首先,说明作为本发明对象的TAIC。作为TAIC的工业性制造方法,已知如下的3种方法。
(1)使2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪(氰脲酰氯)与烯丙醇反应而得到氰脲酸三烯丙酯(以下记作“TAC”),并使其进行转移反应的制造方法(TAC转移法)。
(2)使丙烯基氯于氰酸钠反应而得到异氰酸烯丙酯,并将其三聚化的制造方法(氰酸钠法)。
(3)在碱催化剂的存在下,使丙烯基氯与异氰脲酸反应(氰脲酸的互变异构体)反应的制造方法(异氰脲酸法)。
作为本发明对象的TAIC可以是由上述任意方法得到的TAIC。但是,关于TAIC的杂质似乎还没有报告,但优选需要尽可能除去作为金属腐蚀原因的杂质。在本发明中,从上述观点出发,推荐如下的TAIC。由于TAIC中的杂质种类因TAIC的制造方法而不同,所以,对作为本发明对象的优选TAIC按照制造方法逐一说明。
[由TAC转移法得到的TAIC]
由TAC转移法得到的TAIC,例如,可以按照下述反应途径,通过使2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪(氰脲酰氯)与烯丙醇反应而得到(JACS.73卷.2986-2990(1951))氰脲酸三烯丙酯(TAC),并使其进行转移反应而得到(日本特公平4-6570号公报)。
本发明的发明人对于由转移法得到的TAIC中的杂质进行了深入研究,结果得到下述见解。
(1)以TAC为原料得到的TAIC中的杂质在原料TAC中也存在。而在TAC中包含的杂质由以下化学式(Ⅰ)、(Ⅱ)和(Ⅲ)表示。
化学式(Ⅰ)的R1和R2表示氯原子或烯丙氧基,但至少1个表示氯原子。化学式(Ⅲ)的R3、R4、R5中的任意一个表示氯原子,任意两个表示烯丙氧基。
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