[发明专利]涂有包含基于氧化锡的导电薄膜的抗反射或反射涂层的光学制品及其制造方法有效
申请号: | 201080022914.8 | 申请日: | 2010-03-26 |
公开(公告)号: | CN102449507A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | D·孔特;D·帕萨尔德;K·谢勒;J-L·希尔简 | 申请(专利权)人: | 埃西勒国际通用光学公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B1/11 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 彭立兵;林柏楠 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 基于 氧化 导电 薄膜 反射 涂层 光学 制品 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品,其包括具有至少一个主要表面的基材,所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层,所述涂层包括至少一个导电层,其中:
-所述导电层含有至少30重量%、优选至少40重量%、更优选至少50重量%的氧化锡(SnO2),基于导电层的总重量,
-所述导电层在离子辅助下进行沉积,并且
-所述基材吸水率等于或大于0.6重量%,基于基材的总重量,在预干燥所述基材、然后将其在50℃下在100%相对湿度和大气压力下的腔室中储存800小时后,测定该吸水率。
2.权利要求1的光学制品,其中导电层的厚度为0.1到150nm,优选0.1到50nm,更优选从1到20nm。
3.前述任一项权利要求的光学制品,其中导电层不含有铟。
4.前述任一项权利要求的光学制品,其中所述导电层含有至少90重量%的氧化锡(SnO2),基于导电层的总重量。
5.前述任一项权利要求的光学制品,其中所述导电层由SnO2层组成。
6.前述任一项权利要求的光学制品,其中所述导电层在堆叠体顺序中不形成抗反射或者反射涂层的外层。
7.前述任一项权利要求的光学制品,其中所述导电层在堆叠体顺序中形成抗反射或者反射涂层的倒数第二层。
8.前述任一项权利要求的光学制品,其中基材是聚(硫代氨基甲酸酯),或者由亚烷基二醇双烯丙基碳酸酯的聚合或者共聚合来生成。
9.前述任一项权利要求的光学制品,其中抗反射或反射涂层是多层涂层,其包括交替的高折射率层和低折射率层。
10.前述任一项权利要求的制品,其进一步定义为光学镜片,优选眼科镜片。
11.前述任一项权利要求的制品,其中抗反射或反射涂层包括含有SiO2和Al2O3的混合物的至少一层,并且在真空室内、在沉积过程中往该室内供应气体的情况下进行该层的沉积。
12.权利要求11的制品,其中在气体供应过程中,真空室内的压力为5.10-5到3.10-4毫巴。
13.一种制造前述任一项权利要求所述的光学制品的方法,其包括:-提供包含具有至少一主要表面的基材的光学制品,所述基材具有等于或大于0.6重量%的吸水率,基于基材总重量,吸水率按照权利要求1所述进行测量;
-将抗反射或反射涂层沉积到所述基材的主要表面之上,所述涂层包括至少一个导电层,其包括至少30重量%、优选至少40重量%、更优选至少50重量%的氧化锡(SnO2),基于导电层的总重量,所述导电层通过离子辅助沉积来进行沉积,
-获得包含基材的光学制品,所述基材的主要表面已经涂覆有包含所述导电层的所述抗反射或反射涂层。
14.权利要求13的方法,其中抗反射或反射涂层的每一层的沉积在真空下通过蒸发进行。
15.包含至少30重量%SnO2的层在沉积在光学制品基材之上的抗反射或反射抗静电涂层中的应用,所述基材具有至少0.6重量%的吸水率,用于保持所述涂层的透明度。
16.包含至少30重量%SnO2的层在沉积在光学制品基材之上的抗反射或反射抗静电涂层中的应用,所述基材具有至少0.6重量%的吸水率,用于防止在光学制品中外观缺陷的发生。
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