[发明专利]使用阵列光源的光束对准系统

权利要求书

1.一种用于产生对准的二维平行光束阵列的光束对准系统，包括：

a)光束对准腔，包含：

i)底座，沿长度方向延伸的所述底座具有前边缘、第一侧边缘和第二侧边缘；

ii)安装在所述底座上的多个反射器，每个反射器都具有独立的侧摆和纵摇调节功能；和

b)多个光源阵列，每个光源阵列都产生光束阵列并与对应的反射器配对，并设置成将所述光束引导至其对应的反射器上，且其中所述反射器被设置成沿所述光束对准腔的长度引导所述光束，从而形成对准的二维平行光束阵列。

2.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，所述光源阵列安装在所述光束对准腔外部，且设置成将光引导入所述光束对准腔中并将光引导至对应的安装在底座上的反射器上。

3.如权利要求2所述的光束对准系统，其特征在于，一些光源阵列安置在所述光束对准腔的第一侧上，且其余的光源阵列安置在与所述光束对准腔的所述第一侧相反的所述光束对准腔的第二侧上。

4.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，所述光束对准腔进一步包括与所述底座间隔开的盖以及安装至所述盖的多个反射器，每个安装在盖上的反射器具有独立的侧摆和纵摇调节功能，且其中每个安装在盖上的反射器与产生光束阵列的对应的光源阵列配对，且设置成沿着所述光束对准腔的长度引导所述光束，从而与和所述安装在底座上的反射器相关的光束协作形成所述对准的二维平行光束阵列。

5.如权利要求4所述的光束对准系统，其特征在于，在所述盖中设置调节孔，从而实现所述安装在盖上的反射器和所述安装在底座上的反射器的独立的侧摆和纵摇调节。

6.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，进入所述光束对准腔的每个光束相对于至少一个轴未发散校正，且包括设置在所述对准的二维光束阵列的光学路径中的一个或多个光学元件，所述光学元件设置成相对于至少一个轴校正光束发散，且其中所述光源安置成使得每个光源与所述一个或多个光学元件之间的光学距离针对每个所述光束基本上相等。

7.如权利要求6所述的光束对准系统，其特征在于，校正的对准的二维光束阵列被准直。

8.如权利要求6所述的光束对准系统，其特征在于，所述一个或多个光学元件包括相对于一个轴为所述光束发散提供校正的柱形透镜。

9.如权利要求6所述的光束对准系统，其特征在于，所述一个或多个光学元件包括相对于两个轴为所述光束发散提供校正的一对交叉柱形透镜。

10.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，进入光束合成腔的每个光束都相对于至少一个轴未发散校正，且其中所述反射器是相对于一个轴校正所述光束发散的柱形反射器。

11.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，所述光源是激光光源。

12.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，所述光束对准腔是敞开的，不具有与所述底座的所述第一侧边缘或所述底座的所述第二侧边缘连接的侧壁。

13.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，所述光束对准腔是敞开的，不具有与所述底座的任何边缘连接的侧壁。

14.如权利要求1所述的光束对准系统，其特征在于，所述光学对准系统是提供用于激光投射系统中的二维平行激光束阵列的激光源系统的组件，且其中所述激光投射系统进一步包括：

照明系统，其构造成使其接收的激光均匀化；

成像系统，其构造成与均由所述照明系统均匀化的激光相互作用；和

投射系统，其构造成将激光图像投射至观看屏上。