[发明专利]制造用于有机发光二极管装置的具有纹理化表面的结构的方法、以及具有纹理化表面的结构

权利要求书

1.一种用于制造具有纹理化表面(20)的结构的方法，该结构包括由具有给定纹理(10c)的矿物玻璃制得的基底(10)，以用于有机发光二极管装置，其特征在于该方法包括：

-提供粗糙的基底(10)，在具有0.8mm截止频率的高斯滤波的15mm的分析长度上，其粗糙体(10c)被限定为粗糙度参数Ra介于1-5μm；和

-在所述基底上沉积液相二氧化硅平滑薄膜(2)，所述薄膜用于使粗糙体(10c)足够平滑，以及形成所述结构的纹理化表面(20)。

2.权利要求1的方法，其特征在于在具有25μm截止频率的高斯滤波的180μm的分析长度上，所述结构的纹理化表面(20)被限定为粗糙度参数Rdq小于1.5°，粗糙度参数Rmax小于250nm。

3.权利要求1或2的方法，其特征在于被选为包含至少一种溶胶的沉积的溶胶-凝胶薄膜的平滑薄膜(2)的形成采用湿法工艺进行，尤其是涂布，或在溶液中浸渍或浸涂、或喷涂、或旋涂。

4.权利要求1-3之一的方法，其特征在于平滑薄膜(2)的形成包括沉积第一薄膜，所述第一薄膜基于二氧化硅(纳米)颗粒的水分散体，所述分散体任选具有粘结剂，尤其是二氧化硅溶胶-凝胶。

5.权利要求1或2的方法，其特征在于平滑薄膜的形成包括沉积基本上不含粘结剂的二氧化硅(纳米)颗粒的分散体，然后沉积薄膜，以形成用于(纳米)颗粒的二氧化硅粘结剂，尤其是二氧化硅溶胶-凝胶，该粘结剂渗透穿过(纳米)颗粒的厚度，并覆盖该(纳米)颗粒。

6.前述权利要求之一的方法，其特征在于被选为溶胶-凝胶和/或溶胶-凝胶粘结剂的平滑薄膜(2)由溶胶制得，其初始组成基于硅醇盐，并任选地基于异丙醇型溶剂。

7.前述权利要求之一的方法，其特征在于粗糙体(10c)通过酸蚀刻得到。

8.一种能够通过前述权利要求之一的制造方法得到的具有纹理化表面(20)的结构，该结构包含由矿物玻璃的粗糙体(10c)制得的粗糙的基底(10)，该粗糙体(10c)被限定为在具有0.8mm截止频率高斯滤波的15mm的分析长度上的粗糙度参数Ra为1-5μm，而该粗糙的表面通过沉积在粗糙基底上的二氧化硅平滑薄膜(2)而被充分平滑。

9.权利要求8的结构，其特征在于在具有25μm截止频率高斯滤波的180μm的分析长度上，所述结构的纹理化表面(20)被限定为其粗糙度参数Rdq为小于1.5°，粗糙度参数Rmax为小于250nm。

10.前述结构权利要求之一的结构，其特征在于平滑薄膜(2)是至少用于其表面一部分的溶胶-凝胶。

11.前述结构权利要求之一的结构，其特征在于平滑薄膜基于由二氧化硅溶胶-凝胶覆盖的SiO₂纳米颗粒。

12.一种有机发光二极管装置，其包括具有使用前述方法权利要求之一的方法得到的外纹理化表面的结构，或前述结构权利要求之一的纹理化的表面结构，该纹理化表面被布置在一个或多个有机发光薄膜一侧上，在位于所述一个或多个有机发光薄膜之下的第一电极的下面。