[发明专利]密封的薄膜器件、修补施加到薄膜器件的密封层的方法和系统

权利要求书

1.一种密封的薄膜器件(10，12，14)，包括薄膜器件(30)和施加到该薄膜器件(30)上用以保护该薄膜器件(30)免受环境影响的密封层(20)，该密封的薄膜器件(10，12，14)还包括局部施加的修补材料(40；42，44)用以密封该密封层(20)中的局部裂口(50)。

2.根据权利要求1的密封的薄膜器件(10，12，14)，其中该薄膜器件(30)是发光薄膜器件(30)。

3.根据权利要求1和2中的任一项的密封的薄膜器件(10，12，14)，其中该局部施加的修补材料(40；42，44)包括：

无机材料(40)，其配置为用于密封该局部裂口(50)并配置为被局部沉积，或者

金属材料(40)，其配置为用于密封该局部裂口(50)并配置为被局部沉积，或者

来自密封层(20)的局部处理的密封材料(40)，用于密封该局部裂口(50)。

4.根据权利要求1和2中的任一项的密封的薄膜器件(10，12，14)，其中该局部施加的修补材料(40；42，44)包括共同密封该密封层(20)中的该局部裂口(50)的两种不同材料，该修补材料(40；42，44)包括：

粘合材料(44)和封闭材料(42)，该粘合材料(44)施加到该密封层(20)以提高封闭材料(42)的粘合性从而密封该局部裂口(50)，或者

金属基材料(44)和用于密封该金属基材料(44)中的另外的局部裂口(50)的金属封闭材料(42)，该金属基材料(44)施加到该密封层(20)，或者

基本上为微滴的形状或基本上为球形的形状的第一材料(44)和封闭材料(42)，基本上为微滴的形状或基本上为球形的形状的该第一材料(44)在基本上为微滴的形状或基本上为球形的形状的该第一材料(44)与该密封层(20)之间具有小于45度的接触角，该封闭材料(42)覆盖基本上为微滴的形状或基本上为球形的形状的该第一材料(44)以完全密封该局部裂口(50)，或者

包括吸气材料的第一材料(44)和封闭材料(42)，该第一材料(44)减少进入到局部裂口(50)的水并且该封闭材料(42)被施加在该第一材料(44)上以密封该局部裂口(50)。

5.根据权利要求1至4中任一项的密封的薄膜器件(10，12，14)，其中该局部施加的修补材料(40；42，44)对于该薄膜器件(30)发射的光是至少部分地透明的或者其中该局部施加的修补材料(40；42，44)的尺寸配置为对于人的肉眼基本不可见。

6.一种修补施加到薄膜器件(30)的密封层(20)以产生密封的薄膜器件(10，12，14)的方法(100)，该密封层(20)施加到该薄膜器件(30)用以保护该薄膜器件(30)免受环境影响，该修补方法包括：

探测(120)该密封层(20)中的局部裂口(50)，和

局部施加(140)修补材料(40；42，44)以密封该局部裂口(50)从而制造该密封的薄膜器件(10，12，14)。

7.根据权利要求6的修补方法(100)，其中该方法还包括步骤：

在执行探测(120)该密封层(20)中的局部裂口(50)的步骤之前或者执行探测(120)该密封层(20)中的局部裂口(50)的步骤时，将包括该密封层(20)的该薄膜器件(30)在预定环境中保持(110)预定时段。

8.根据权利要求6和7中的任一项的修补方法(100)，其中该方法还包括步骤：

向薄膜器件(30)施加机械应力(105)以在该薄膜器件(30)的机械薄弱区域中产生局部裂口(50)。

9.根据权利要求6、7和8中的任一项的修补方法，其中探测该局部裂口(50)的步骤包括步骤：

光学(120)探测该密封层(20)中的局部裂口(50)，或者

激活(115)该薄膜器件(30)以发光以及随后光学探测(120)在该密封层(20)中的该局部裂口(50)。