[发明专利]双组分蚀刻

权利要求书

1.可喷墨的组合物，其包含由蚀刻剂和使得蚀刻剂惰性且生成不带电配合物的第二组分组成的配合物。

2.根据权利要求1的组合物，其包含由盐组成的不带电的配合物。

3.根据权利要求1或2的组合物，其包含选自如下的盐：碱金属氟化物，包括氨、单，二和三烷基胺的胺的HF盐，以及聚合的胺的HF盐、氮杂环类聚合物的HF盐如聚烯丙基胺和聚乙烯基吡啶的氟化物，或氟丙酮，或其混合物。

4.根据权利要求1或2的组合物，其包含选自如下的盐：NH₄F、(CH₃)₃NHF、(CH₃CH₂)₃NHF和(异丙烯)₃NHF。

5.根据权利要求1或2的组合物，其包含选自如下的含氟化合物：四氟硼酸铵、四氟硼酸、选择性氟试剂(1-氯甲基-4-氟-1，4-重氮化双环[2.2.2]辛烷双(四氟硼酸盐))和有机酸氟化物如苄基氟、芳基磺酰基氟化物、特别是对甲苯磺酰氟化物或其混合物的含氟化合物。

6.根据权利要求1到5的一项或多项的组合物，其包含选自N-磺酰基氧基酰亚胺、肟磺酸酯、磺酸铵、苯偶姻甲苯磺酸酯和2-硝基苯甲苯磺酸酯的产生质子的化合物。

7.根据权利要求1到5的一项或多项的组合物，其包含在辐照条件下释放质子的化合物，所述化合物选自羟基芳香烃，优选选自1-萘酚、2-萘酚和二苯基碘鎓氟化物。

8.根据权利要求3或4或5或6或7的组合物，其以约5到约25wt％的范围包含生成氟化物的组分。

9.根据权利要求8的组合物，其以约5到约15wt％的范围的量包含多元醇。

10.根据权利要求9的组合物，其包含选自丙三醇、氯乙醇、二氧杂环己烷频哪醇或其混合物的多元醇，水以及当合适时的聚乙二醇、聚亚甲基二醇、乙二醇单甲醚。

11.根据权利要求10的组合物，其在环境温度下是惰性的且在升高的温度下产生其蚀刻性质。

12.根据权利要求1-11的一项或多项的组合物，其在包含活化剂或给质子化合物的第二组合物的存在下是活性的。

13.根据权利要求10的组合物，其在包含选自羧酸酯、有机酸如乙酸等、无机酸如磷酸等或它们的混合物的酸性组分的组合物存在下是活性的。

14.根据权利要求10的组合物，其在包含选自聚苯乙烯磺酸、聚乙酸的多元酸或者包含选自乙酸或其他有机酸、磷酸或其他无机酸或其混合物的酸的组合物的存在下是活性的。

15.根据10的组合物作为用于蚀刻SiO₂或SiN_x层的可喷墨印刷组合物的用途。