[发明专利]含有紫外线吸收剂的防晒用化妆组合物有效

专利信息
申请号: 201080024111.6 申请日: 2010-08-26
公开(公告)号: CN102448433A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 神本哲男;根岸由典 申请(专利权)人: 株式会社艾迪科
主分类号: A61K8/49 分类号: A61K8/49;A61Q17/04;A61Q19/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 张楠;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含有 紫外线吸收剂 防晒 化妆 组合
【说明书】:

技术领域

本发明涉及防晒用化妆组合物,详细而言,涉及如下防晒用化妆组合物,其特征在于,为了针对紫外线保护皮肤和毛发,通过含有具有特定结构的三嗪系化合物来吸收短波长(UV-B、UV-C)及长波长(UV-A)。

背景技术

日光对人类皮肤的损伤作用自古以来就已知,为了保护皮肤免受该损伤而提出了很多处理方法。一般而言,渗透到上方的大气中并到达地球表面的有害的紫外线(UV)、特别是由日光产生的紫外线可以分类成下面的(i)、(ii)。

(i)对皮肤具有很强的生理病理学作用的能量丰富的UV-B射线(290~320nm的波长)。它们在真皮的正上方被吸收而成为红斑及皮肤色素沉着的原因。

(ii)深深地渗透到皮肤(直到真皮或者越过真皮)中的UV-A射线(320~400nm的波长)。其能量与UV-B线相比大幅降低,它们所显示的光生物学作用波及非常长的时间,例如它们会促进皮肤的老化。

为了缓和紫外线的不良作用,提议使用分子吸收有害紫外线的某种有机物质(防晒剂)。这些物质中的几种在UV-A范围内更有效地吸收,在该范围内发挥UV射线的过滤器作用,另一方面,其它的物质在UV-B范围内更有效。然而,无论选择何种有机防晒剂,保护免受何种紫外线的波长,均存在共同的问题。该问题是,以对于有效地遮蔽有害紫外线而言必要的量来局部给予这些防晒剂后,对人体可产生生理学损伤。即使是认为对于这样的使用是安全的有机防晒剂,也必然存在针对给予皮肤的量的安全界限,其结果是,对于有害的紫外线得不到充分的保护。

为了用作将皮肤对紫外线的暴露进行物理性阻止的防晒剂,还提出了某种无机物质。它们当中应受到注目的是具有非常小的粒子尺寸的二氧化钛。称为超微细TiO2的这种二氧化钛不会显示通常的颜料品级(粒子尺寸>300nm)中见到的不能容许的皮肤白化作用,而带来良好的遮光能力。例如专利文献1中提出了在作为防晒用制剂的油包水型乳液中,使用具有小于100nm的平均一次粒子尺寸的二氧化钛。进而,该专利文献1暗示,通过也包含例如像对氨基苯甲酸及其酯、甲氧基肉桂酸酯、二苯甲酮、二苯甲酰基甲烷或水杨酸酯那样的有机防晒剂,可提高保护。尽管有该方案及其它的现有的方案,对于给予UV区域中宽范围的保护(即保护免受UV-A及UV-B这两者)的非常有效且足够安全的防晒用化妆组合物依然存在需求。

另外,本发明中所用的三嗪系紫外线吸收剂一方面在下述专利文献2中作为TAC膜用紫外线吸收剂而公开,另一方面在下述专利文献3中作为短波长侧的吸收较大的紫外线吸收剂而被报道。专利文献2及3中记载了这些三嗪系紫外线吸收剂具有适于光学材料用途的紫外线吸收能力,并且合成树脂物性的热劣化等性能优异,但关于保护人类和动物的皮肤、毛发免受紫外线的用途,没有暗示的记载,没有公开涉及防晒用化妆组合物的用途。

此外,下述专利文献4中公开了含有二或三(羟基芳基)三嗪系化合物的防晒用化妆品。进而下述专利文献5中公开了含有二(羟基芳基)三嗪系化合物的化妆品调剂。然而,这些方法未在充分宽的范围内得到防止紫外线的效果。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:德国专利申请公开第3,824,999号公报

专利文献2:日本特开平11-071356号公报

专利文献3:日本特开2001-302926号公报

专利文献4:日本特开平5-025029号公报

专利文献5:美国专利第6184375号说明书

发明内容

发明所要解决的问题

本发明的目的在于提供在短波长侧及长波长侧具有吸收的防晒用化妆组合物。

用于解决问题的手段

本发明人等进行了深入研究,结果发现,使用了具有特定结构的三嗪系化合物的防晒用化妆组合物可达成上述目的。进而发现,在改善紫外线吸收效果时,通过使化妆基材中含有具有特定结构的三嗪系化合物,从而表现出在短波长侧及长波长侧具有吸收的优异效果,从而完成了本发明。

即,本发明提供一种防晒用化妆组合物,其特征在于,其含有由下述通式(1)表示的三嗪系化合物(a)及下述化学式(2)表示的三嗪系化合物(b)组成的紫外线吸收剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社艾迪科,未经株式会社艾迪科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080024111.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top