[发明专利]氧化物烧结体、其制造方法以及氧化物烧结体制造用原料粉末有效
申请号: | 201080024800.7 | 申请日: | 2010-05-28 |
公开(公告)号: | CN102459122A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 生泽正克;矢作政隆;长田幸三;挂野崇;高见英生 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | C04B35/00 | 分类号: | C04B35/00;C01G15/00;C04B35/453;C23C14/34;H01L21/203 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化物 烧结 制造 方法 以及 体制 原料 粉末 | ||
1.一种氧化物烧结体,为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa表示的氧化物烧结体,式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z,其特征在于,该氧化物烧结体中含有的挥发性杂质的浓度为20ppm以下。
2.如权利要求1所述的氧化物烧结体,其特征在于,挥发性杂质含有选自氯化合物、硝酸化合物、硫酸化合物、铵化合物中的一种以上。
3.如权利要求1或2所述的氧化物烧结体,其特征在于,挥发性杂质为氯化合物。
4.如权利要求1至3中任一项所述的氧化物烧结体,其特征在于,挥发性杂质为氯与镓的化合物。
5.如权利要求1至4中任一项所述的氧化物烧结体,其特征在于,相对密度为95%以上,体电阻值为5.0×10-2Ωcm以下。
6.如权利要求5所述的氧化物烧结体,其特征在于,相对密度为98%以上。
7.如权利要求5所述的氧化物烧结体,其特征在于,相对密度为99%以上。
8.一种氧化物烧结体的制造方法,用于制造包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa表示的氧化物烧结体,式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z,其特征在于,使用挥发性杂质浓度各自为20ppm以下的氧化铟、氧化镓和氧化锌原料粉末进行烧结。
9.如权利要求8所述的氧化物烧结体的制造方法,其特征在于,挥发性杂质含有选自氯化合物、硝酸化合物、硫酸化合物、铵化合物中的一种以上。
10.如权利要求8或9所述的氧化物烧结体的制造方法,其特征在于,挥发性杂质为氯化合物。
11.如权利要求8至10中任一项所述的氧化物烧结体的制造方法,其特征在于,挥发性杂质为氯与镓的化合物。
12.一种氧化物烧结体制造用原料粉末,其包含挥发性杂质浓度各自为20ppm以下的氧化铟、氧化镓和氧化锌粉末。
13.如权利要求12所述的氧化物烧结体制造用原料粉末,其特征在于,挥发性杂质含有选自氯化合物、硝酸化合物、硫酸化合物、铵化合物中的一种以上。
14.如权利要求12或13所述的氧化物烧结体制造用原料粉末,其特征在于,挥发性杂质为氯化合物。
15.如权利要求12至14中任一项所述的氧化物烧结体制造用原料粉末,其特征在于,挥发性杂质为氯与镓的化合物。
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