[发明专利]转印用塑模及转印用塑模的制造方法

权利要求书

1.一种转印用塑模，其特征在于，具备以下构成：形成为略圆柱状的辊筒体、于所述辊筒体外周面上形成的表面层、形成于所述表面层上的微细结构层，所述表面层由405nm的波长中的折射率n在1.3以上2.0以下、且消光系数k在0.3以下的材料构成。

2.根据权利要求1所述的转印用塑模，其特征在于，所述表面层由405nm的波长中的折射率n在1.3以上2.0以下、且消光系数k在0.3以下的无机材料构成。

3.根据权利要求2所述的转印用塑模，其特征在于，所述无机材料选自元素周期表I族～VI族、XII族～XVI族元素的氧化物、氮化物、碳化物、硫化物和氟化物，及其混合物。

4.根据权利要求3所述的转印用塑模，其特征在于，所述无机材料为玻璃材料。

5.根据权利要求4所述的转印用塑模，其特征在于，所述玻璃材料选自石英玻璃、高硅酸玻璃、硼硅酸玻璃、氨基硅酸玻璃、无碱玻璃、铅玻璃、钡玻璃、磷硅酸玻璃、氟化物玻璃、镧玻璃、透明结晶化玻璃以及吸热玻璃。

6.根据权利要求1所述的转印用塑模，其特征在于，所述表面层由405nm的波长中的折射率n在1.3以上2.0以下、且消光系数k在0.3以下的有机材料构成。

7.根据权利要求6所述的转印用塑模，其特征在于，所述有机材料选自聚丙烯、聚酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚醚砜、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸亚甲基酯、丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚酰胺、芳族聚酰胺、氟树脂、聚烯烃、硅树脂、环氧树脂、酰胺酰亚胺树脂、顺丁烯二酰亚胺树脂、纤维素树脂以及液晶聚合物。

8.根据权利要求1至7任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述表面层的厚度在5μm以上10mm以下。

9.根据权利要求1至8任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，作为所述表面层的表面粗糙度的轮廓算术平均偏差Ra在10nm以下。

10.根据权利要求1至9任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述表面层由层压至少2层405nm的波长中的折射率n在1.3以上2.0以下且消光系数k在0.3以下的材料构成的同时，所述辊筒体与同所述辊筒体相接触的所述表面层之间形成有吸光层。

11.根据权利要求1至10任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述辊筒体为具有导电性的辊筒体。

12.根据权利要求11所述的转印用塑模，其特征在于，所述辊筒体为由选自SUS、碳钢、Al、Al合金、Ti、Ti合金、碳纤维复合材料、导电性塑料材料及其组合的材料构成的具有导电性的辊筒体。

13.根据权利要求11所述的转印用塑模，其特征在于，所述辊筒体是具有导电性的辊筒体，构成所述辊筒体的材料的电阻率在10¹⁰Ω·cm以下。

14.根据权利要求1至13任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述辊筒体与所述辊筒体的外周面上形成的表面层之间的室温中的红外线膨胀系数之差在20×10^-6/℃以下。

15.根据权利要求14所述的转印用塑模，其特征在于，所述辊筒体由红外线膨胀系数在15×10^-6/℃以下的材料构成。

16.根据权利要求1至15任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述微细结构层由光抗蚀剂材料构成。

17.根据权利要求1至15任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述微细结构层由热反应型抗蚀剂材料构成。

18.根据权利要求17所述的转印用塑模，其特征在于，所述热反应型抗蚀剂材料为有机抗蚀剂材料或者无机抗蚀剂材料。

19.根据权利要求17所述的转印用塑模，其特征在于，所述热反应型抗蚀剂材料选自不完全氧化物、热分解氧化物及金属合金。

20.根据权利要求17至19任意一项所述的转印用塑模，其特征在于，所述微细结构层通过层压至少2层热反应型抗蚀剂材料而成。