[发明专利]设备

权利要求书

1.一种用于在衬底(11)表面上进行原子层沉积的设备(1)，通过对衬底(11)表面进行交替的起始物料表面反应来进行原子层沉积，该设备包括：两个或更多个低压室(2)；两个或更多个独立的可动反应室(8，12)，这些可动反应室设置用于放在低压室(2)内部；以及至少一个起始物料输入系统(5)，它由两个或更多个低压室(2)共用，其特征在于：该设备包括至少一个装载装置(6)，该装载装置设置成给可动反应室(8，12)装载和卸载衬底(11)，以及进一步给低压室(2)装载和卸载可动反应室(8，12)。

2.如权利要求1的设备(1)，其特征在于：装载装置(6)放置在低压室(2)外部，处于大气压。

3.如权利要求1或2的设备(1)，其特征在于：装载装置(6)设置成服务于两个或更多个低压室(2)。

4.如权利要求1-3之任一的设备(1)，其特征在于：装载装置(6)包括自动机械(16)，该自动机械设置有一个或多个机械手(17)，用于移动衬底(11)以及可动反应室(8，12)。

5.如权利要求1-4之任一的设备(1)，其特征在于：装载装置(6)包括预热工位(13)，用于在将衬底装载到低压室(2)内之前加热衬底(11)。

6.如权利要求1-5之任一的设备(1)，其特征在于：装载装置(6)包括冷却工位(14)，用于冷却在低压室(2)内处理过的衬底(11)。

7.如权利要求1-6之任一的设备(1)，其特征在于：装载装置(6)还包括装载运载器(12)，衬底(11)被放置在该装载运载器上，以便在低压室(2)内处理。

8.如权利要求7的设备(1)，其特征在于：安装运载器(12)构成可动反应室。

9.如权利要求8的设备(1)，其特征在于：安装运载器(12)构成整个可动反应室(8)的一部分。

10.如权利要求7-9之任一的设备(1)，其特征在于：安装运载器(12)包括将被安装在衬底(11)顶部的独立的气体分配部分。

11.如权利要求1-10之任一的设备(1)，其特征在于：低压室(2)平行地、叠置地或以矩阵形式设置在该设备内。

12.如权利要求1-11之任一的设备(1)，其特征在于：低压室(2)设置成用于接纳一个或多个可动反应室(8，12)。

13.如权利要求1-12之任一的设备(1)，其特征在于：可动反应室(8，12)设置成用于接纳一个或多个衬底(11)。

14.如权利要求1-13之任一的设备(1)，其特征在于：该设备(1)包括加热装置，用于独立于其他低压室(2)来加热装载在各低压室(2)内的衬底。

15.如权利要求14的设备(1)，其特征在于：每个低压室(2)包括独立的加热装置。

16.如权利要求1-15之任一的设备(1)，其特征在于：起始物料输入系统(5)设置成同时向一个或多个低压室(2)输送起始物料。

17.如权利要求16的设备(1)，其特征在于：起始物料输入系统(5)设置成同时或不同时向两个或更多个低压室(2)输送相同的起始物料或不同的起始物料。

18.如权利要求1-17之任一的设备(1)，其特征在于：该设备(1)包括控制系统(4)，用于控制低压室(2)和/或反应室(8)和/或起始物料输入系统(5)和/或装载装置(6)和/或加热装置和/或加热室的工作。

19.如权利要求1-18之任一的设备(1)，其特征在于：低压室(2)包括用于将可动反应室(8)装载到低压室(2)的装载口以及用于从低压室(2)卸载可动反应室(8)的卸载口。

20.如权利要求19的设备(1)，其特征在于：装载口和卸载口设置在低压室(2)的相对侧。