[发明专利]光刻设备和方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求于2009年6月17日递交的美国临时申请61/187,829的权益，这里以参考的方式全文并入。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。

光刻设备通常包括照射系统。照射系统接收来自源(例如激光器)的辐射，并且提供入射到图案形成装置的辐射束(通常称为“投影”束)。辐射束通过图案形成装置图案化，并且随后通过投影系统投影到衬底上。

在光刻技术领域中已知，投影到衬底上的图案形成装置的图像可以通过提供具有合适的照射模式的辐射束来进行改善。因而，光刻设备的照射系统通常包括强度分布调节设备，其布置用以引导、成形以及控制在照射系统内的辐射束，使得其具有一种照射模式。

发明内容

通过多种强度分布调节设备可以提供想要的照射模式，所述强度分布调节设备布置用以控制照射束以便实现想要的照射模式。例如，变焦距-轴棱镜装置(变焦透镜和轴棱镜的组合)可以用以形成环形照射模式，其中照射模式的内部径向范围和外部径向范围(σ_inner和σ_outer)是可控的。变焦距-轴棱镜装置通常包括可以独立地移动的多个折射光学部件。因此，变焦距-轴棱镜装置不适于与例如极紫外(EUV)辐射(例如在大约13.5nm波长处的辐射)一起使用，因为在该波长处的辐射在通过折射材料的时候被强烈吸收。

空间滤波器可以被用于形成照射模式。具有对应偶极模式的开口的空间滤波器可以设置在照射系统的光瞳平面内，以便生成偶极照射模式。当想要不同的照射模式的时候，空间滤波器可以被不同的空间滤波器移除和替代。然而，空间滤波器阻挡了大部分的辐射束，由此在辐射束入射到图案形成装置的时候降低了辐射束的强度。已知的EUV源努力提供一定强度的EUV辐射，其足以允许光刻设备有效地操作。因此，不希望在形成照射模式的时候拦截相当大部分的辐射束。

期望地，例如提供一种光刻设备，其克服或缓解了本文描述的或其他地方描述的一个或多个缺点。

根据一方面，提供一种照射系统，其具有多个反射元件，所述反射元件可以在引导辐射朝向光瞳平面内的不同部位的不同取向之间移动，由此形成不同的照射模式；

每个反射元件能够移动至将辐射引导至位于内部照射部位组中的一部位的第一取向、引导辐射至中间照射部位组中的一部位的第二取向以及引导辐射至外部照射部位组中的一部位的第三取向；

其中反射元件配置成被取向成使得它们能够引导相等量的辐射朝向内部、中间以及外部照射部位组，并且配置成被取向成使得它们基本上不引导辐射至外部照射部位组、而是引导基本上相等量的辐射朝向内部和中间照射部位组。

根据一方面，提供一种在照射模式之间切换的方法，所述方法包括将多个反射元件取向成使得它们引导相等量的辐射朝向光瞳平面内的内部照射部位组、中间照射部位组以及外部照射部位组，并且随后将多个反射元件取向为使得它们基本上不引导辐射朝向外部照射部位组、而是引导基本上相等量的辐射朝向内部照射部位组和中间照射部位组。

附图说明

下面仅通过示例的方式，参考附图对本发明的实施例进行描述，其中示意性附图中相应的标记表示相应的部件，在附图中：

图1示意地示出根据本发明一个实施例的光刻设备；

图2更加详细地示出根据图1的光刻设备的一部分；

图3示出光刻设备的照射系统的可移动反射元件的操作；

图4示出了光刻设备的照射系统的第一反射部件的初级反射元件的移动效果；

图5a和5b示出光刻设备的照射系统的可移动反射元件的操作，以及所产生的y偶极照射模式；