[发明专利]准直方法、准直装置及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及使光掩模与将至少在局部具有长边的图案形成为矩阵状且沿长边方向输送中的被曝光体进行位置对准的准直方法，详细而言，涉及即使对于复杂的图形的图案也能够进行高精度的位置对准的准直方法、准直装置及曝光装置。

背景技术

以往的此种准直方法通过将多个受光元件在与滤色基板的输送方向正交的方向上排列成一直线状而成的摄像机构，拍摄在滤色基板(被曝光体)上形成的矩形形状的多个像素，基于该摄像图像的亮度信息来检测滤色基板的左端像素的左侧缘部的位置，算出该左端像素的左侧缘部的位置与预先设定于摄像机构的基准位置(目标位置)之间的位置偏差量，为了补偿该位置偏差量而使光掩模沿着与滤色基板的输送方向正交的方向移动，来进行光掩模与滤色基板的位置对准(例如，参照专利文献1)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-76709号公报

然而，在此种现有的准直方法中，检测亮度从暗到明变化的位置，以该位置为基准，来进行被曝光体的图案与光掩模的开口部的位置对准，因此对于矩形形状的简单图形的图案，在图案的缘部设定的基准位置的检测容易且位置对准也容易，但对于例如TFT基板那样的在像素内具有配线图案的复杂图形的图案而言，在图案的缘部设定的基准位置的检测困难，位置对准不容易。因而，难以高精度地进行被曝光体的图案与光掩模的开口部的位置对准。

因此，本发明应对此种问题点，其目的在于提供一种即使对于复杂图形的图案也能够进行光掩模的高精度的位置对准的准直方法、准直装置及曝光装置。

发明内容

为了实现上述目的，本发明的准直方法使光掩模与将至少在局部具有长边的图案形成为矩阵状且沿着所述长边方向输送中的被曝光体进行位置对准，其执行如下的步骤：对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置的步骤，该摄像机构通过在与所述被曝光体的输送方向交叉的方向上将多个所述受光元件排列成一直线状而成；在所述被曝光体移动一定距离期间，将在所述受光元件的排列方向上的相同位置检测到的所述亮度变化的次数沿着被曝光体的输送方向进行累计，而得到多个边缘个数数据的步骤；根据超过了利用所述多个边缘个数数据所预先设定的阈值的多个边缘个数数据，来确定所述图案的与所述输送方向平行的多个所述长边的位置的步骤；从所述确定的多个长边的位置中选择与预先设定于所述摄像机构的目标位置接近的长边的位置的步骤；算出所述选择的长边的位置与所述摄像机构的目标位置的位置偏差量的步骤；以所述位置偏差量成为预先设定的值的方式至少使所述光掩模沿着与所述被曝光体的输送方向交叉的方向进行相对移动，而进行所述光掩模与所述被曝光体的位置对准的步骤。

根据此种结构，将至少在局部具有长边的图案为矩阵状的被曝光体沿着该长边方向输送，并对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在被曝光体移动一定距离期间，将在上述受光元件的排列方向上的相同位置检测到的亮度变化的次数沿着被曝光体的输送方向进行累计，而得到多个边缘个数数据，根据超过了利用该多个边缘个数数据所预先设定的阈值的多个边缘个数数据来确定上述图案的与输送方向平行的多个长边的位置，从该确定的多个长边的位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的长边的位置，算出该选择的长边的位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以补偿该位置偏差量的方式至少使光掩模沿着与被曝光体的输送方向交叉的方向进行相对移动，而进行光掩模与被曝光体的位置对准，其中该摄像机构在与被曝光体的输送方向交叉的方向上将多个受光元件排列成一直线状而成。

另外，在确定了所述多个长边的位置后，取代选择与预先设定于所述摄像机构的目标位置接近的长边的位置的步骤，而执行利用所述多个长边来运算多个接近对的中点位置的步骤和从所述多个接近对的中点位置中选择与预先设定于所述摄像机构的目标位置接近的中点位置的步骤，在算出所述位置偏差量的步骤中，算出所述选择的中点位置与所述摄像机构的目标位置的位置偏差量。由此，在确定了多个长边的位置后，利用该多个长边来运算多个接近对的中点位置，从该多个接近对的中点位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的中点位置，算出该选择的中点位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量。

此外，所述摄像机构通过透射照明来拍摄所述被曝光体的图案。由此，利用摄像机构通过透射照明来拍摄被曝光体的图案。