[发明专利]可调式电子光学液晶透镜及形成此透镜的方法有效
申请号: | 201080027458.6 | 申请日: | 2010-06-18 |
公开(公告)号: | CN102804000A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 飞利浦·伯斯;道格拉斯·布莱恩特;石雷;宾利·瓦力 | 申请(专利权)人: | 肯特州立大学 |
主分类号: | G02B1/06 | 分类号: | G02B1/06 |
代理公司: | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人: | 韩登营 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调式 电子光学 液晶 透镜 形成 方法 | ||
1.一种可调式电子光学透镜装置,其特征在于,包含:
至少两个透明的基板,一透明的导电电极层连接至各个所述基板,其中至少一个所述电极层被图形化并包含多个环形电极,其中至少一个所述环形电极是以一电阻电桥电性连接于相邻的环形电极,其中一电致动液晶材料层位于至少两个透明的所述基板间。
2.如权利要求1所述的可调式装置,其特征在于,输入接线连接到至少一个所述环形电极,且当第一电压经由所述输入接线被施加在所述环形电极上时,所述透镜装置可由第一光学功率调整到第二光学功率。
3.如权利要求1所述的可调式装置,其特征在于,所述电阻电桥包含一电阻路径,所述电阻路径包含具有一电阻的导电材料,其中,所述导电材料连接于所述相邻的环形电极。
4.如权利要求3所述的可调式装置,其特征在于,所述电阻电桥的所述导电材料有一约100到2000欧姆的电阻,且其中所述导电材料的边界是由非导电材料或非导电材料以外的区域所形成。
5.如权利要求4所述的可调式装置,其特征在于,所述电阻电桥的所述导电材料的电阻为约800到1200欧姆。
6.如权利要求3所述的可调式装置,其特征在于,所述电极层包含氧化铟、氧化锡及氧化铟锡中的一个或多个,其中各个所述电极层的厚度分别为约100到2000埃,且其中所述电极层的电阻率是约10到1000欧姆/平方,且其中所述电阻电桥的所述导电材料包含氧化铟、氧化锡及氧化铟锡中的一个或多个。
7.如权利要求1所述的可调式装置,其特征在于,其中配向层被设置在各个电极层上,且其中所述基板保持约5到100微米的距离。
8.如权利要求1所述的可调式装置,其特征在于,所述基板包含非双折射材料、配向材料或补偿材料或其结合。
9.如权利要求3所述的可调式装置,其特征在于,图形化的所述电极层包含约20到2000个电极。
10.如权利要求9所述的可调式装置,其特征在于,输入接线连接到图形化的所述电极层的最内部的环,且约10到100个电级环中的每一个均额外地配置有一输入接线,且其中每一对相邻的电极环间均配置有一电阻电桥。
11.一种可调式电子光学透镜装置的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一透明的基板;
在所述基板上形成至少两个导电电极环;以及
在所述电极环之间形成一电阻电桥且电性连接于所述电极环。
12.如权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述电极环及所述电阻电桥是以光微影技术形成的。
13.如权利要求3所述的制备方法,其特征在于,形成所述电阻电桥的步骤包含提供包含导电材料的电阻路径,所述导电材料包含被非导电材料或非导电材料以外的区域所围绕,以在所述电极环间形成一电阻值形成一电阻值。
14.如权利要求13所述的制备方法,其特征在于,所述电阻电桥的所述导电材料有一约100到2000欧姆的电阻值。
15.一种可调式电子光学透镜装置,其特征在于,包含:
透明的第一基板,其具有一透明的第一导电电极层,该第一导电电极层连接至所述第一基板,所述第一电极层被图形化且具有多个环形电极;一透明的第二基板,其具有一透明的第二导电电极层,该第二导电电极层连接至所述第二基板,所述第二电极层被图形化且具有多个环形电极;及一电致动液晶材料层位于透明的所述第一、第二基板之间,其中在所述第二基板上的至少一个环形电极在平面方向上覆盖所述第一基板的至少两个环形电极。
16.如权利要求15所述的可调式电子光学透镜装置,其特征在于,一个或多个所述第一电极层及所述第二电极层的相同的电极层中的邻近的环形电极被设置在不同的平面上且其中各个环形电极包含一输入接线。
17.如权利要求16所述的可调式电子光学透镜装置,其特征在于,在所述第二基板上的至少一所述环形电极向所述第一电极层的环形电极的多个组提供活塞状的相位变化。
18.如权利要求15所述的可调式电子光学透镜装置,其特征在于,配向层位于各个电极层中,且其中所述第一、第二基板之间保持约5到100微米的距离。
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