[发明专利]纹理化DLC涂层的方法及由此纹理化的DLC涂层

权利要求书

1.一种纹理化DLC涂层的方法，所述方法包括：

-在所述DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层，

-用氧等离子体干法蚀刻所述DLC涂层，

-最后，清洗所述涂层以去除所述球状物或球状体。

2.如权利要求1所述的纹理化DLC涂层的方法，其中采用朗缪尔-布洛尔杰特技术沉积所述球状物或球状体的单层。

3.如权利要求1所述的纹理化DLC涂层的方法，其中采用浸涂技术沉积所述球状物或球状体的单层。

4.如权利要求1-3中的一项所述的纹理化DLC涂层的方法，其中在干法蚀刻所述DLC涂层之前，通过选择性化学工艺并且特别是用SF₆+CHF₃等离子体进行所述球状物或球状体的受控蚀刻。

5.如权利要求1-4中的一项所述的纹理化DLC涂层的方法，其中在蚀刻之后通过浸泡在乙醇浴中来清洗所述DLC涂层的表面以去除所述球状物或球状体。

6.如权利要求5所述的纹理化DLC涂层的方法，其中还使所述乙醇浴经受超声波。

7.如权利要求1-6中的一项所述的纹理化DLC涂层的方法，其中所述球状物或球状体由二氧化硅或聚合物例如特别是胶乳或聚苯乙烯制成。

8.如权利要求1-7中的一项所述的纹理化DLC涂层的方法，其中所述球状物或球状体的直径为100纳米到10微米。

9.如权利要求1-8中任一项所述的方法用于制造经受磨损或摩擦的机器部件的用途。

10.一种机器磨损或摩擦部件，所述部件具有根据权利要求1-8中任一项所述的方法纹理化的DLC表面涂层，所述涂层在纹理化后具有空穴，其容积V由下面的关系式给出：

V=(3-π2)r2d]]>

其中的符号：

-r表示球状物或球状体的半径，

-d为所述空穴的深度。