[发明专利]用于静电中和的洁净电晕气体电离

权利要求书

1.一种装置，用来从放电产生的污染物副产物中分离电晕放电产生的离子，包括：

装置，用于建立具有压力并且流向下游方向的非电离气流；

装置，用于建立包括离子和污染物副产物的等离子区域，所述等离子区域处的压力充分低于所述等离子区域附近的所述非电离气流的压力，以防止基本上所有的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流；以及

装置，用于将非电离电场叠加到所述等离子区域，使足够引起至少很大部分的所述离子迁移入所述非电离气流。

2.如权利要求1所述的气体电离装置，其中用于建立等离子区域的所述装置进一步包括用于施加电离射频电场的装置，从而致使至少很大部分的所述污染物副产物在所述等离子区域内。

3.如权利要求1所述的气体电离装置，其中

所述等离子区域处的压力充分低于所述非电离气流的压力以防止基本上所有的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流，而又不低到防止至少很大部分的所述离子迁移入所述非电离气流；

所述非电离气流的气体是正电性气体；以及

用于建立的所述装置进一步包括用于建立包括电子、正离子、负离子和污染物副产物的等离子区域的装置。

4.如权利要求1所述的气体电离装置，其中用于建立等离子区域的所述装置包括：

外壳，所述外壳具有至少一个面向下游方向并且与所述非电离气流气体连通的孔，所述外壳具有至少一个排出端口，所述排出端口提供所述外壳内且在所述孔附近的气压，所述气压低于在所述外壳外部并在所述孔附近的所述非电离气流的压力；以及

至少一个电离电极，所述电离电极具有尖端，用于响应射频电离电势的施加而产生包括正离子、负离子和污染物副产物的大致为球形的等离子区域，所述尖端被设置在所述外壳内并且从所述外壳孔凹进一距离，该距离大致上等于或大于所述等离子区域的直径。

5.如权利要求4所述的气体电离装置，其中用于叠加非电离电场的所述装置是位于所述外壳孔上游的参比电极，所述非电离气体是正电性气体并且所述等离子区域进一步包括电子。

6.一种气体电离装置，用于将非电离气流转换成往下游方向流向电荷中和目标的洁净电离气流，所述装置包括：

装置，用于建立具有压力并且流向下游方向的非电离气流；

装置，用于建立包括离子和污染物副产物的等离子区域；

装置，用于对所述等离子区域施加充分的压差以防止至少很大部分的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流，而不足以防止至少很大部分的所述离子迁移入所述非电离气流；以及

装置，用于将非电离电场叠加到所述等离子区域，使足够引起至少很大部分的所述离子迁移入所述非电离气流，但不足以引起至少很大部分的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流从而产生往下游方向流向所述电荷中和目标的洁净的电离气流。

7.如权利要求6所述的气体电离装置，其中用于施加压差的所述装置包括一装置，用于对等离子区域施加充分的压差以防止基本上所有的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流，而不足以防止至少很大部分的所述离子迁移入所述非电离气流；以及

用于叠加非电离电场的所述装置包括一装置，用于将非电离电场叠加到所述等离子区域，使足够引起至少很大部分的所述离子迁移入所述非电离气流而不足以引起基本上任何的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流从而产生所述洁净的电离气流。

8.如权利要求6所述的气体电离装置，其中用于施加压差的所述装置包括一装置，用于充分降低所述等离子区域处的压力以防止基本上所有的所述污染物副产物迁移入所述非电离气流，而不足以防止至少很大部分的所述离子在所述电场影响下迁移入所述非电离气流。

9.如权利要求6所述的气体电离装置，其中用于建立等离子区域的所述装置包括一装置，用于在所述非电离气流内建立包括正离子、负离子和污染物副产物的受保护的等离子区域。