[发明专利]制备有机烷氧基氢硅烷的方法

权利要求书

1.一种制备硼含量低于100ppb的有机烷氧基氢硅烷的方法，该有机烷氧基氢硅烷具有下式：

R¹_xH_ySi(OR²)_z

其中x+y+z＝4

且x、y、z大于或等于1，

其中在第一步骤中，用二氧化硅或硅铝酸盐对硼污染的具有下式的有机卤代氢硅烷进行处理：

R¹_xH_ySiHal_z

其中x+y+z＝4，

x、y、z大于或等于1，且

R¹是直链或支链的具有1-12个碳原子的烷基、环烷基、芳基、烯基或芳基烷基，Hal是F、Cl、Br或I，随后在第二步骤中将所述二氧化硅或硅铝酸盐从有机卤代氢硅烷中除去，然后使经纯化的有机卤代氢硅烷与醇R²-OH反应，其中R²是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基或叔戊基。

2.权利要求1的制备有机烷氧基氢硅烷的方法，其特征在于，所述二氧化硅或硅铝酸盐通过过滤从有机卤代氢硅烷中除去。

3.权利要求1的制备有机烷氧基氢硅烷的方法，其特征在于，所述二氧化硅或硅铝酸盐通过蒸馏从有机卤代氢硅烷中除去。

4.权利要求1-3之一的制备有机烷氧基氢硅烷的方法，其特征在于，除所述醇以外，至少一种溶剂在反应过程中额外存在。

5.权利要求1-4之一的制备有机烷氧基氢硅烷的方法，其特征在于，至少一种酸清除剂在反应过程中额外存在。

6.权利要求4的制备有机烷氧基氢硅烷的方法，其特征在于，所述溶剂是异己烷。

7.权利要求5的制备有机烷氧基氢硅烷的方法，其特征在于，所述酸清除剂是脲。

8.具有下式的有机烷氧基氢硅烷：

R¹_xH_ySiOR²_z

其中x+y+z＝4

x、y、z大于或等于1，且

其中R¹是直链或支链的具有1-12个碳原子的烷基、环烷基、芳基、烯基或芳基烷基，R²是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基或叔戊基和苯基，其特征在于，其硼含量小于100ppb。

9.具有下式的有机卤代氢硅烷：

R¹_xH_ySiHal_z

其中x+y+z＝4

x、y、z大于或等于1，且

其中R¹是直链或支链的具有1-12个碳原子的烷基、环烷基、芳基、烯基或芳基烷基，且Hal是F、Cl、Br或I，其特征在于，其硼含量小于100ppb。