[发明专利]表面处理剂、物品及含氟醚化合物无效
| 申请号： | 201080029104.5 | 申请日： | 2010-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN102471237A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 白川大祐;牛头佳幸;星野泰辉 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C07C235/08 | 分类号： | C07C235/08;C03C17/32;C08F20/24;C09D4/02;C09D5/16;C09K3/00;C09K3/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 处理 物品 含氟醚 化合物 | ||
1.表面处理剂，其特征在于，含有下式(A)表示的化合物(A)，
RFO(CF2CF2O)aCF2C(O)N(H)b(-Q-OC(O)C(R)＝CH2)2-b(A)
式中，RF是碳数1～20的全氟1价饱和烃基或碳原子-碳原子间插入了醚性氧原子的碳数2～20的全氟1价饱和烃基，且是不存在-OCF2O-结构的基团，a为1～200的整数，b为0或1，Q为碳数1～6的亚烷基或-Ph-(CH2)c-，其中，Ph为1，4-亚苯基，c为0或1，R为氢原子或碳数1～3的烷基。
2.如权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于，所述表面处理剂为指纹除去性能赋予剂。
3.表面处理用组合物，其特征在于，包含下式(A)表示的化合物(A)和有机溶剂，
RFO(CF2CF2O)aCF2C(O)N(H)b(-Q-OC(O)C(R)＝CH2)2-b(A)
式中，RF是碳数1～20的全氟1价饱和烃基或碳原子-碳原子间插入了醚性氧原子的碳数2～20的全氟1价饱和烃基，且是不存在-OCF2O-结构的基团，a为1～200的整数，b为0或1，Q为碳数1～6的亚烷基或-Ph-(CH2)c-，其中，Ph为1，4-亚苯基，c为0或1，R为氢原子或碳数1～3的烷基。
4.如权利要求3所述的表面处理用组合物，其特征在于，所述有机溶剂包含氟类有机溶剂。
5.如权利要求3或4所述的表面处理用组合物，其特征在于，相对于100质量份所述有机溶剂，包含0.001～50质量份的所述化合物(A)。
6.物品的表面处理方法，其特征在于，将权利要求1或2所述的表面处理剂涂布于基材的表面，然后使化合物(A)固化而形成涂膜，或者将权利要求3～5中任一项所述的表面处理用组合物涂布于基材的表面，使有机溶剂干燥，然后使化合物(A)固化而形成涂膜。
7.如权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，所述基材为透明基材。
8.如权利要求7所述的表面处理方法，其特征在于，所述透明基材的材料为玻璃或聚碳酸酯。
9.如权利要求6～8中任一项所述的表面处理方法，其特征在于，对所述基材的表面赋予指纹除去性能。
10.物品，其特征在于，具备将权利要求1或2所述的表面处理剂涂布于基材的表面后使化合物(A)固化而形成的涂膜，或者具备将权利要求3～5中任一项所述的表面处理用组合物涂布于基材的表面、使有机溶剂干燥后使化合物(A)固化而形成的涂膜。
11.如权利要求10所述的物品，其特征在于，所述基材为透明基材。
12.如权利要求11所述的物品，其特征在于，所述透明基材的材料为玻璃或聚碳酸酯。
13.如权利要求10～12中任一项所述的物品，其特征在于，表面具有指纹除去性能。
14.下式(A)表示的化合物(A)，
RFO(CF2CF2O)aCF2C(O)N(H)b(-Q-OC(O)C(R)＝CH2)2-b(A)
式中，RF是碳数1～20的全氟1价饱和烃基或碳原子-碳原子间插入了醚性氧原子的碳数2～20的全氟1价饱和烃基，且是不存在-OCF2O-结构的基团，a为1～200的整数，b为0或1，Q为碳数1～6的亚烷基或-Ph-(CH2)c-，其中，Ph为1，4-亚苯基，c为0或1，R为氢原子或碳数1～3的烷基。
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