[发明专利]遮光膜用着色组合物,遮光图案,其形成方法,固体摄像装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080029240.4 申请日: 2010-07-07
公开(公告)号: CN102471616A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 田中达哉 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C09D7/12 分类号: C09D7/12;C09B67/20;C09D4/00;C09D4/02;G02B5/20;G03F7/004
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 遮光 着色 组合 图案 形成 方法 固体 摄像 装置 及其 制造
【权利要求书】:

1.一种遮光膜用着色组合物,所述遮光膜用着色组合物包含:选自含钛原子的黑钛颜料的至少一种颜料以及选自由红色有机颜料、黄色有机颜料、紫色有机颜料和橙色有机颜料组成的组的至少一种有机颜料,

其中当形成膜以使得在650nm的波长的光透过率为0.2%时,所述着色组合物具有1.5%以下的波长为400至700nm的光的透过率的最大值,具有在400至550nm展现最大透过率的波长,并且在400nm的波长具有0.1%以上的光透过率。

2.根据权利要求1所述的遮光膜用着色组合物,其中所述黑钛颜料(tip)与所述有机颜料(orp)的质量比(tip∶orp)为90∶10至40∶60。

3.根据权利要求2所述的遮光膜用着色组合物,其中相对于所述着色组合物的总固体质量,所述黑钛颜料的含量为20质量%以上。

4.根据权利要求2所述的遮光膜用着色组合物,其中相对于颜料的总质量,所述黑钛颜料的含量为35质量%以上。

5.根据权利要求1所述的遮光膜用着色组合物,其中所述有机颜料的至少一种为:二酮吡咯并吡咯系颜料、苝系颜料、苯并咪唑酮系颜料、芘酮系颜料、萘酚AS系颜料、蒽醌系颜料、吡唑啉酮系颜料或异吲哚啉酮系颜料。

6.根据权利要求1所述的遮光膜用着色组合物,所述遮光膜用着色组合物是可光固化的并且还包含树脂、可聚合化合物和光聚合引发剂。

7.根据权利要求6所述的遮光膜用着色组合物,所述遮光膜用着色组合物用于制备用于固体摄像装置的滤色片。

8.根据权利要求1所述的遮光膜用着色组合物,其中相对于所述着色组合物的总固体含量,包含所述黑钛颜料和所述有机颜料的总的颜料的含量为15至60质量%。

9.根据权利要求6所述的遮光膜用着色组合物,其中所述树脂是具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的树脂。

10.根据权利要求6所述的遮光膜用着色组合物,其中所述光聚合引发剂是肟系光聚合引发剂。

11.根据权利要求1所述的遮光膜用着色组合物,所述遮光膜用着色组合物还包含具有50mgKOH/g以上的酸值的分散剂。

12.一种用于形成遮光图案的方法,所述方法包括:

将权利要求6所述的遮光膜用着色组合物设置在载体上以形成着色膜;

将所述着色膜以图案形状形式曝光;和

将曝光之后的所述着色膜显影以形成遮光图案。

13.一种遮光膜,所述遮光膜包含:选自含钛原子的黑钛颜料的至少一种颜料以及选自由红色有机颜料、黄色有机颜料、紫色有机颜料和橙色有机颜料组成的组的至少一种有机颜料;

其中当具有650nm的波长的光的透过率为0.2%时,所述遮光膜具有1.5%以下的波长为400至700nm的光的透过率的最大值,具有在400至550nm展现最大透过率的波长,并且在400nm的波长具有0.1%以上的光透过率。

14.一种遮光膜,所述遮光膜通过权利要求12所述的用于形成遮光图案的方法形成。

15.一种用于制造固体摄像装置的方法,所述方法包括:

将权利要求6所述的遮光膜用着色组合物设置在透光部件上以形成着色膜,所述透光部件安置在半导体基板的光接收表面侧上,所述半导体基板至少设置有滤色片和光接收区域;

将所形成的着色膜以图案形状形式曝光;

将曝光之后的所述着色膜显影以形成遮光图案;和

在所述遮光图案形成之后,将所述半导体基板分离为预定元件以制造固体摄像装置。

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