[发明专利]皮肤辐射设备和方法有效
申请号: | 201080030862.9 | 申请日: | 2010-06-23 |
公开(公告)号: | CN102470251A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | G.瓦格纳尔卡乔拉;A.里茨;V.S.D.吉伦;I.E.阿什当;D.洛夫兰 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61N5/01 | 分类号: | A61N5/01;A61N5/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李亚非;刘鹏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 皮肤 辐射 设备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及皮肤辐射设备。
本发明进一步涉及皮肤辐射方法。
背景技术
银屑病是一种慢性非感染性炎症性皮肤病,特征在于界限分明的斑块,其中细胞比正常更快地增殖(过度增殖),导致非常干燥的和红色的皮肤。表皮中的细胞增殖速率由生长分数和细胞周期时间的组合控制。在正常皮肤中,产生的细胞数量由离开表皮增殖池的细胞数量平衡。细胞在皮肤的基底层与角质层之间转变(基本上从出生到死亡并且变得从皮肤松弛)所需的时间为大约4周,而对于银屑病患者而言,这个时间大大缩短(大约4天)。
光线疗法被证明是银屑病的一种有效的治疗(treatment)。这些包括宽带紫外线B(UVB)辐射和窄带UVB、补骨脂素加紫外线A(PUVA)的光化学疗法以及UV激光。305-314nm的波长范围内的UVB辐射被证明对于治疗银屑病最有效。
已知具有PL或TL放电灯的装置,其用于利用窄带(312nm)辐射或UVA辐射进行全身或局部身体治疗。这些装置不允许根据斑块本身的严重性而施加特定的剂量。因此,它们也辐照健康的皮肤。健康皮肤的辐照可能具有诸如老化或者甚至癌症之类的副作用。
此外,已知手持式涂药器,其例如从具有308nm波长的受激准分子激光器发射窄辐射束。这样的装置允许医师精确地将辐射施加到受感染区域(area)。然而,这可能是一个艰巨的任务,因为患者的皮肤可能具有数百个或者甚至数千个相互隔离的受感染区域。此外,为了治疗有效,它必须重复许多次。即使医师以非常专注的方式执行该任务,也几乎不可能防止特定受感染区域被过度治疗或者保持未受治疗。
美国专利申请2008/0051773描述了一种利用电磁辐射治疗皮肤状况的设备,该设备包括电磁辐射源和被配置成接收来自该源的电磁辐射的图像定形装置。该设备进一步包括控制系统,该控制系统被配置成使得图像定形装置基于皮肤状况的图像形成包括患者皮肤上的电磁辐射的定形的治疗图像。所述美国专利申请的图1示出了捕获患者皮肤的区域116的图像的照相机102。控制系统(计算机106)标识要治疗的银屑病斑块120或者其他皮肤状况,并且产生适当的治疗图像且将其发送到投射系统104。来自激光器108的紫外光122由光学系统110聚焦到图像定形装置112上。图像定形装置112在其通过聚焦透镜114将光反射到患者皮肤118上时从计算机106产生图像并且将该图像传递到光112中以形成治疗图像124。照相机具有足够的刷新率以便允许足够快速地更新治疗图像以补偿患者运动,例如呼吸。在一些实例中,系统完全自动化,能够使臂404运动,该臂根据需要将成像头406置于患者身体的不同区域。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种改进的皮肤辐射设备。
本发明的另一目的是提供一种改进的皮肤辐射方法。
依照本发明的第一方面,提供了一种皮肤辐射设备,该设备包括:
- 光子辐射单元,其用于产生在第一方向上延伸的线状辐射模式,该光子辐射单元包括光子辐射源,
- 运动机构(facility),其用于使线状辐射模式在第一方向横向的第二方向上运动,
- 检测单元,其用于检测皮肤状况分布型(profile),
- 控制单元,其用于根据检测单元检测的皮肤状况分布型控制用于线状辐射模式的功率密度分布。
线状辐射模式在本文中定义为被限制到要治疗的皮肤表面上的线状区域的光子辐射模式。线状区域被理解为具有这样的长度的区域,该长度远大于其宽度,例如至少10倍那么大。线状辐射模式无需在线状区域的完整长度上延伸,而是可以例如辐射线状区域内的皮肤的一个或多个部分。
皮肤状况分布型在本文中定义为作为针对整个区域或者其要治疗的部分(例如线状部分)的皮肤上的位置的函数的皮肤状况。
功率密度分布在本文中定义为线状辐射模式内的作为第一方向上的位置的函数的功率密度(以mW/cm2为单位)的分布。
因此,依照本发明的该第一方面的设备适合于在线状区块(region)内施加具有希望的功率密度分布的辐射。因此,简单的光学构件就足够了并且可以根据针对线状区块的检测的皮肤状况分布型快速地计算所需的功率密度分布。于是,与要求波束以复杂的二维模式定形的已知设备相比,所述设备可以具有相对较低的成本。
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