[发明专利]用于光电作用的综合系统

权利要求书

1.用于光电作用的综合系统，含有以下组成部分：

-一支持薄片(2)，

-一金属薄片(3)，该金属薄片被安装在所述支持薄片(2)上，以及

-一绝缘层(4)，该绝缘层被安装在所述金属薄片(3)上，

其特征在于，

-所述金属薄片(3)具有一表面结构，并且

-所述绝缘层(4)具有连接件。

2.根据权利要求1的综合系统，其特征在于，所述绝缘层(4)的连接件

-是一粘合剂，并且/或者

-该绝缘层自身有粘附性能。

3.根据权利要求1或2的综合系统，其特征在于，所述绝缘层(4)

-由一透明电子绝缘材料制成，优选为一合成材料或一合成树脂，尤其优选为一环氧化物树脂，或由一溶胶凝胶层或一电介质层构成，并且/或者波长范围在400nm至1000nm之间，折射率大于1.6，并且/或者

-其折射率小于或等于用于入光窗口的玻璃的折射率，并且/或者

-所述绝缘层(4)由一合成材料制成，该合成材料具有粘附性，所述材料优选为聚乙烯醇缩丁醛。

4.根据权利要求1至3中任意一项中的综合系统，其特征在于，所述支持薄片(2)

-由聚乙烯醇缩丁醛，聚氟乙烯，乙二醇二乙酸酯或一具有相似物理性能和热性能的合成材料制成，或者

-由聚对苯二甲酸乙二醇酯或由各种材料组合而成的材料制成，所述聚对苯二甲酸乙二醇酯为双向拉伸聚合物，并且/或者

-背面有一涂层，优选为一铝制层面。

5.根据权利要求1至5中任意一项中的综合系统，其特征在于，所述金属薄片(3)

-由铜，铝或银，或锡或锡合金，或镀锡薄片制成，并且/或者

-厚度大于5μm，优选为10至20μm，并且/或者

-具有一增加反射率的薄层，该薄层优选为二氧化硅和/或二氧化钛，其中所述金属薄片(3)上的这一薄层的折射率80％以上在波长范围300nm至1000nm之间，并且/或者

-具有一表面结构，该表面结构优选为均匀或不均匀的三维结构，尤其优选为棱椎形或半球形，其中，该结构的优选高度为5μm至10μm，其高度尤为优选在5μm至10μm的随机分布，并且/或者该表面结构为顶角小于140°的棱椎，并且/或者

-具有一表面结构，该表面结构优选为均匀或不均匀的三维结构，尤其优选为棱椎形或半球形，其中，该结构的优选高度不超过1000nm，其中所述表面结构以及/或者所述棱椎或半球高度尤为优选在10-1000nm的随机分布，尤为优选的范围为100-1000nm。

6.用于制作权利要求1至5中任意一项中的用于光电作用的综合系统的生产方法，包含以下生产步骤；

-生产一金属层(3)，

-将金属层(3)和一支持薄片(2)通过一具有粘附作用的连接件相互连接，

-将所述金属层(3)和支持薄片(2)与一绝缘层(4)通过一具有粘附作用的连接件相互连接，以及

-将绝缘层(4)打开以便接触。

7.用于制作权利要求1至5中任意一项中的用于光电作用的综合系统的生产方法，包含以下生产步骤；

-生产一金属层(3)，

-将金属层(3)和一绝缘层(4)通过一具有粘附作用的连接件相互连接，

-将所述金属层(3)和绝缘层(4)与一支持薄片(2)通过一具有粘附作用的连接件相互连接，以及

-将绝缘层(4)打开以便接触。