[发明专利]分析气体的设备和方法以及相关的测量站

权利要求书

1.一种用于测量半导体衬底的输送壳中的气体污染的站，其包括气体分析设备以确定要分析的气体的浓度，所述分析设备包括：

稀释单元(3)，配置为根据稀释系数(D)稀释要分析的气体的流量(Q)，以及

分析单元(5)，通过采样管(7)与所述稀释单元(3)连通以便通过抽吸采样稀释后气体的流量(Qa)，并且包括至少一个处理装置以用于：

分析所采样的稀释后气体的流量(Qa)，以及

根据所分析的稀释后气体的流量(Qa)和所述稀释系数(D)，确定要分析的气体流量的浓度(C)。

2.根据权利要求1的用于测量气体污染的站，其中所述稀释单元(3)作为分支与所述管(7)连接。

3.根据权利要求1和2中的一项的用于测量气体污染的站，其中所述稀释单元(3)包括作为分支与所述管(7)连接的多个稀释通道(9a，9b)，每个稀释通道(9a，9b)分别与稀释系数(D1，D2)关联。

4.根据权利要求3的用于测量气体污染的站，其中每个稀释通道具有：

将中性气体的流量(Qi)注入到所述管(7)中以便稀释所述要分析的气体的流量(Q)的装置(11)，以及

以在所述管(7)中保持恒定的流量的方式抽吸稀释后气体的流量(Qp)以从所述管(7)提取稀释后气体的流量的装置(13)。

5.根据权利要求3和4中的一项的用于测量气体污染的站，其中每个稀释通道(9a，9b)分别与要分析的气体流量的稀释相关联。

6.根据权利要求3到5中的一项的用于测量气体污染的站，其中至少两个稀释通道(9a，9b)被关联以稀释要分析的气体的流量。

7.根据上述权利要求中的一个的用于测量气体污染的站，其被配置为一方面分析过滤器的输入处的气体的流量以及另一方面分析所述过滤器的输出处的气体的流量。

8.一种用于确定要分析的气体的浓度的气体分析方法，所述方法包括如下步骤：

确定稀释系数(D)，

以稀释要分析的气体的流量(Q)的方式，注入预定的中性气体的流量(Qi)并且抽吸稀释后的气体的流量(Qp)，

通过抽吸采样要分析的稀释后气体的流量(Qa)，

分析所采样的稀释后气体的流量(Qa)，

从所分析的稀释后气体的流量(Qa)和所述稀释系数(D)确定要分析的气体的流量(Q)的浓度(C)。

9.根据权利要求8的气体分析方法，所述方法包括：

初步步骤，其中根据要分析的气体的浓度范围的浓度最大值确定所述稀释系数(D)。