[发明专利]双轴取向聚酯膜和磁记录介质

说明书

技术领域

本发明涉及尺寸稳定性优异的双轴取向聚酯膜。本发明的双轴取向聚酯膜适合作为磁记录介质用、电绝缘用、电容器用、电路材料、太阳能电池用材料等。本发明的双轴取向聚酯膜，在上述用途中，特别是在作为磁记录介质的基膜使用时，可以得到温度、湿度的环境变化下的尺寸变化或保存后的尺寸变化小，错误率低，并且磁头、磁性带体的磨削少的行走耐久性优异的高密度磁记录介质。

背景技术

双轴取向聚酯膜，利用其优异的热特性、尺寸稳定性、机械特性、电气特性、耐热性和表面特性而用于磁记录介质用、电绝缘用、电容器用、包装用、磁记录介质用等各种工业材料用途。特别是作为磁记录介质等的支持体的有用性被人所熟知。

近年来，磁性带体等磁记录介质，为了基材的轻量化、小型化和大容量化，要求基膜的薄膜化、高密度记录化。为了实现高密度记录化，有效的方法是缩短记录波长，减小记录磁轨。

但在减小记录磁轨时存在以下问题：带体行走时的热或带体保管时的温湿度变化造成的带体变形容易使记录磁轨错位。因此，改善基膜相对于带体的使用环境和保管环境的尺寸稳定性的要求日渐加强。此外，对作为磁性带体时的行走耐久性的改善要求也日渐强烈。

此外，在薄膜化时，机械强度变得不充分，膜的结实强度变弱，容易沿着长度方向伸长，沿着宽度方向收缩，所以存在以下问题：出现磁轨错位，或者磁头接触恶化，电磁转换特性降低，或者磁头或带体被磨削。

从这些方面考虑，在强度、尺寸稳定性方面，作为支持体使用刚性比双轴拉伸聚酯膜非常高的芳香族聚酰胺。但芳香族聚酰胺在刚性过高时，有时会引起磁头磨削。进而由于价格昂贵，在现实中不能作为通用的记录介质的支持体。对于使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯膜，也使用拉伸技术开发出了高强度化了的磁记录介质用支持体。但目前还难以满足相对于温度、湿度的尺寸稳定性等方面的苛刻要求。

近年来为了提高聚酯膜的耐热性，研究了在聚酯中掺混其它的热塑性树脂等的方法。

已经提出了，由聚酯和聚酯以外的热塑性树脂混合而成的双轴取向聚酯膜，是行走性、耐伤痕性优异的膜(例如专利文献1)。但该技术是膜表面的耐伤痕性的改良技术，与本申请的技术思想不同。实际上用该篇文献记载的技术不能提高机械物性、尺寸稳定性。此外，当在聚酯中混合聚酯以外的热塑性树脂时，并没有公开本申请所示那样的、用于提高膜的尺寸稳定性的重要混合方法和本申请实施例中示出的使用聚酰亚胺等的3成分的树脂制作膜时的具体制膜方法。

此外，对于由聚酯、聚酰亚胺和与聚酰亚胺纳米相容的聚合物形成的膜，提出了作为与聚酰亚胺纳米相容的聚合物使用芳香族聚醚酮等来提高耐热性、热尺寸稳定性的膜(例如专利文献2)。但该技术中，相对于聚酯，聚酰亚胺、以及与聚酰亚胺纳米相容的聚合物的混合量多，有时不能通过拉伸等有效使分子链取向。例如，要满足作为高密度化磁记录介质等使用时相对温度、湿度的尺寸稳定性等方面的苛刻要求未必是充分的。进而有时在膜中容易出现由未熔融物产生的异物，表面容易变得粗糙，例如在磁记录介质用等使用时有时电磁转换特性不良。

进而还提出了由聚酰亚胺与其它的热塑性树脂形成的树脂组合物(例如专利文献3)，但将其用于聚酯膜的具体方法等尚无任何公开。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-323146号公报

专利文献2：日本特开2004-123863号公报

专利文献3：日本特开2002-249660号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于解决上述问题，得到刚性和尺寸稳定性优异的双轴取向聚酯膜。特别是提供在作为磁记录介质的基膜使用时，温度、湿度的环境变化或保存造成的尺寸变化小，可以制成错误率少、并且磁头、磁性带体的磨削少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质的双轴取向聚酯膜。

解决课题的方法

为了实现上述目的，本发明具有以下特征。

(1).一种双轴取向聚酯膜，具有海岛结构，岛部分的平均分散直径为30～200nm，膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0～6ppm/％RH。

(2).如上述(1)所述的双轴取向聚酯膜，膜内部的雾度值为0～50％。

(3).如上述(1)或(2)所述的双轴取向聚酯膜，长度方向和宽度方向的折射率的平均值为1.600～1.850。