[发明专利]光催化材料

权利要求书

1.包含基材的材料，该基材在其至少一个面的至少一部分上用包含光催化层和至少一个分别具有高和低折光指数的层的对的堆叠层涂覆，该光催化层的几何厚度为2-30nm，该高和低折光指数层的对被设置在所述光催化层下面使得在该对或每个对中该或每个高折光指数层最靠近该基材，所述光催化层与该最远离基材的对的低折光指数层直接接触，所述的材料使得对于350nm波长时该或每个高折光指数层，除光催化层外，的光学厚度为170-300nm，和对于350nm的波长时该或每个低折光指数层的光学厚度为30-90nm。

2.根据前述权利要求的材料，其中对于350nm的波长时，该或每个低折光指数层的光学厚度为35-80nm。

3.根据前述权利要求之一的材料，其中基材是玻璃板。

4.根据前述权利要求之一的材料，其中该光催化层用至少部分地以锐钛矿形式结晶的二氧化钛制成。

5.根据前述权利要求之一的材料，其中光催化层的几何厚度小于或等于25nm，特别地小于或等于20nm。

6.根据前述权利要求之一的材料，其包含1或2个对，该对为分别具有高和低折光指数的层的对。

7.根据前述权利要求之一的材料，其从基材开始连续地包括高折光指数层，在该高折光指数层上方有低折光指数层并且与其接触，在该低折光指数层本身上方有光催化层并且与其接触。

8.根据前述权利要求之一的材料，尤其根据前一权利要求的材料，其中对于350nm的波长时，该高指数层或任选地每个高指数层的光学厚度为180-260nm。

9.根据前一权利要求的材料，其中对于350nm的波长时，该低指数层或任选地每个低指数层的光学厚度为35-80nm。

10.根据前一权利要求的材料，其中该高折光指数层是由两或三个重叠的基本层构成的复合层。

11.根据前述权利要求之一的材料，其中该或每个低折光指数层的平均折光指数小于或等于1.7，和其中该或每个高折光指数层的平均折光指数大于1.7。

12.根据前述权利要求之一的材料，其中该或每个高折光指数材料是氧化物或氮化物，特别地选自Si₃N₄、TiO₂、ZrO₂、SnO₂、ZnO、Nb₂O₅、Ta₂O₅或其混合物或固溶体的任一种。

13.根据前述权利要求之一的材料，其中该或每个低折光指数材料基于选自SiO₂、Al₂O₃、SiOC的材料或它们的混合物或固溶体任一种。

14.包含至少一种根据前述权利要求之一的材料的窗玻璃。