[发明专利]具有双层壁冷却的气化反应器

权利要求书

1.用于制造含CO或H₂的原气体的气化反应器，通过在高于灰的熔点的温度下利用含氧的气体使含灰的燃料气化来进行制造，其中在一压力容器的内部设有由冷却剂流过的隔膜形成的反应室，还设有过渡区和骤冷室，还具有沿重力方向处于下游的残渣收集容器，其特征在于：除了在骤冷室(11)中形成水膜(16)的装置(14，15)以外，构成骤冷室壁(17)的缸体的至少一部分构造成双层壁的，并具有用于附加地润湿(18)骤冷室壁(17)的内表面的冷却剂溢流口(21)和在向下封闭的双层壁的缸体(19)的下部区域中的切向的冷却剂输入口(20)。

2.如权利要求1所述的气化反应器，其特征在于，环形的溢流室(19b)覆盖带有设置在上面的冷却剂溢流口(21b)的骤冷室缸体(17)的轴向长度的大约一半。

3.如权利要求1或2所述的气化反应器，其特征在于，环形的溢流室(19a)覆盖带有设置在上面的冷却剂溢流口(21a)的骤冷室缸体(17)的轴向长度的四分之一。

4.如前述权利要求中任一项所述的气化反应器，其特征在于，在围绕骤冷室(11)的缸体的壁(17)中和/或在溢流室的向外朝向骤冷室的壁中和/或在压力容器壁(2)及骤冷室(11)之间的环形空间(23)内设置喷嘴(24)，用于喷洒冷却剂，以便进行附加的冷却。