[发明专利]光电转换装置无效
申请号: | 201080032318.8 | 申请日: | 2010-07-26 |
公开(公告)号: | CN102473754A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 大见忠弘 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东北大学 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 转换 装置 | ||
1.一种光电转换装置,其特征在于,具有:
将入射光的能量转换成电能的光电转换元件、和
设置于所述光电转换元件的散热部,
所述光电转换元件具有设置于与所述散热部接触的部分且由含有SiCN的材料构成的钝化层。
2.如权利要求1所述的光电转换装置,其特征在于,
所述光电转换元件含有第一电极层、第二电极层、和在所述第一电极层以及第二电极层之间设置的1个或者多个发电层叠体,
所述发电层叠体含有p型半导体层、与该p型半导体层接触形成的i型半导体层、和与所述i型半导体层接触形成的n型半导体层,
所述钝化层设置于所述第二电极层。
3.如权利要求2所述的光电转换装置,其特征在于,
所述第一电极层是透明电极。
4.如权利要求1~3中任意一项所述的光电转换装置,其特征在于,
所述发电层叠体的所述i型半导体层由结晶硅、微晶非晶硅、以及非晶硅的任一种形成。
5.如权利要求1~4中任意一项所述的光电转换装置,其特征在于,
所述第一电极层中,所述n型半导体层所接触的部分含有n型的ZnO,与所述第一电极层接触的所述n型半导体层由非晶硅形成。
6.如权利要求1~5中任意一项所述的光电转换装置,其特征在于,
与所述第二电极层接触的所述p型半导体层由非晶硅形成,在所述第二电极层中至少所述p型半导体层所接触的部分,形成有含有镍(Ni)的层。
7.如权利要求1~6中任意一项所述的光电转换装置,其特征在于,
所述散热部是由含有Al的材料构成的散热器。
8.如权利要求1~7中任意一项所述的光电转换装置,其特征在于,
所述SiCN具有在氮化硅Si3N4中添加了2原子%~40原子%的C的组成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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