[发明专利]磁性叠层设计

权利要求书

1.一种磁性叠层，包括：

铁磁自由层、铁磁参考层以及两者之间的阻挡层，所述自由层具有可切换的磁化取向，所述参考层具有被钉扎的磁化取向，并且所述自由层、所述参考层和所述阻挡层中的每一个都具有中心；以及

具有中心的环形反铁磁钉扎层，所述钉扎层的中心与所述自由层、所述参考层和所述阻挡层中的每一个的中心大体对齐，所述钉扎层与所述自由层电隔离且与所述参考层物理接触。

2.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述参考层的面积比所述自由层大。

3.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述参考层是合成反铁磁(SAF)三层。

4.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述参考层是单层铁磁性被钉扎层。

5.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述环形钉扎层至少围绕所述自由层。

6.如权利要求5所述的磁性叠层，其特征在于，还包括位于所述环形钉扎层和所述自由层之间的电绝缘隔离层。

7.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述环形钉扎层被放置在所述被钉扎层的与所述自由层相对的一侧。

8.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述阻挡层的面积比所述自由层大。

9.如权利要求1所述的磁性叠层，其特征在于，所述磁性叠层是磁性隧道结存储器单元。

10.一种磁性叠层，包括：

铁磁自由层、铁磁参考层以及两者之间的阻挡层，所述自由层具有可切换的磁化取向，所述参考层具有被钉扎的磁化取向，以及

反铁磁钉扎层，所述反铁磁钉扎层与所述自由层电隔离且与所述参考层物理接触；

其中所述自由层、所述参考层、所述阻挡层和所述钉扎层中的每一个都具有中心和外径，所述参考层的外径比所述自由层大。

11.如权利要求10所述的磁性叠层，其特征在于，所述阻挡层的外径比所述自由层大。

12.如权利要求10所述的磁性叠层，其特征在于，所述参考层是合成反铁磁(SAF)三层。

13.如权利要求10所述的磁性叠层，其特征在于，所述钉扎层是环形的且具有内径。

14.如权利要求13所述的磁性叠层，其特征在于，所述钉扎层的内径比所述自由层的外径大。

15.如权利要求10所述的磁性叠层，其特征在于，还包括位于所述环形钉扎层和所述自由层之间的电绝缘隔离层。

16.如权利要求10所述的磁性叠层，其特征在于，所述环形钉扎层被放置在所述被钉扎层的与所述自由层相对的一侧。

17.一种磁性叠层，包括：

铁磁自由层、合成反铁磁(SAF)耦合参考层以及两者之间的阻挡层，所述自由层具有可切换的磁化取向，所述SAF参考层具有被钉扎的磁化取向，所述SAF参考层包括由金属间隔件分隔开的第一铁磁子层和第二铁磁子层，且所述第一子层与所述第二子层不同。

18.如权利要求17所述的磁性叠层，其特征在于，所述第一子层比所述第二子层厚。

19.如权利要求17所述的磁性叠层，其特征在于，所述第一子层的矫顽力与所述第二子层不同。

20.如权利要求17所述的磁性叠层，其特征在于，还包括围绕所述自由层的电绝缘隔离层。