[发明专利]多层比色传感器阵列有效

专利信息
申请号: 201080032488.6 申请日: 2010-05-19
公开(公告)号: CN102460157A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 尼尔·A·拉科;迈克尔·S·文德兰 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G01N33/483 分类号: G01N33/483;G01N33/497;G01N21/25;G01N21/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 陈源;张天舒
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多层 比色 传感器 阵列
【权利要求书】:

1.一种用于光学检测被分析物的阵列,所述阵列包括至少两个能够单独光学询问的感测元件,

其中每一感测元件包括位于两个反射层之间的光学响应层,

其中每一感测元件的所述光学响应层包括至少对被分析物高度响应的第一子层,并且其中所述感测元件中的至少一个感测元件的所述光学响应层还包括对被分析物响应最小的第二子层,

其中每一感测元件的所述第一子层和所述第二子层各自具有某一厚度,并且其中一个感测元件的所述第一子层和所述第二子层的厚度分别显著不同于另一个感测元件的所述第一子层和所述第二子层的厚度。

2.根据权利要求1所述的阵列,其中至少一个感测元件的所述光学响应层的厚度与至少一个其他感测元件的所述光学响应层的厚度接近。

3.根据权利要求1所述的阵列,其中所述感测元件中的至少一个感测元件不包含对被分析物响应最小的第二子层。

4.根据权利要求1所述的阵列,其中所述感测元件中的至少一个感测元件包括光学响应层,其中对被分析物高度响应的第一子层的厚度与对被分析物响应最小的第二子层的厚度的比率为1∶8至8∶1。

5.根据权利要求1所述的阵列,其中所述感测元件中的至少一个感测元件包括光学响应层,其中对被分析物高度响应的第一子层的厚度与对被分析物响应最小的第二子层的厚度的比率为1∶4至4∶1。

6.根据权利要求1所述的阵列,其中所述阵列包括至少三个能够单独光学询问的感测元件,并且其中每一感测元件的所述第一子层和所述第二子层的所述厚度分别显著不同于其他感测元件中的每一感测元件的所述第一子层和所述第二子层的厚度。

7.根据权利要求1所述的阵列,其中所述感测元件中的每一感测元件的光学响应包括从在不存在引起所述光学响应的足够被分析物的情况下的第一外观改变为在被监测气氛中存在足够引起所述光学响应的被分析物浓度的情况下的第二外观。

8.根据权利要求7所述的阵列,其中足够引起所述阵列的至少一个感测元件的光学响应的被分析物浓度为足够引起所述阵列的至少一个其他感测元件的光学响应的被分析物浓度的至少两倍。

9.根据权利要求7所述的阵列,其中所述阵列的至少一个感测元件在存在足够引起所述阵列的至少一个其他感测元件的光学响应的所述被分析物浓度的至少五倍的被分析物浓度的情况下不显示光学响应。

10.根据权利要求7所述的阵列,其中足够引起所述阵列的至少一个感测元件从所述第二外观改变回所述第一外观的被分析物浓度大于足够引起所述阵列的至少一个其他感测元件从所述第一外观改变为所述第二外观的所述被分析物浓度。

11.根据权利要求7所述的阵列,其中所述阵列的每一感测元件的所述第一外观和所述第二外观分别与所述阵列的其他感测元件中的每一感测元件的所述第一外观和所述第二外观接近。

12.根据权利要求1所述的阵列,其中所述被分析物包括有机被分析物。

13.根据权利要求1所述的阵列,其中所述感测元件中的至少一个感测元件的所述对被分析物高度响应的子层包括含有固有微孔性聚合物的材料。

14.根据权利要求1所述的阵列,其中所述阵列与个人呼吸防护装置联合使用。

15.根据权利要求14所述的阵列,其中所述阵列的所述感测元件设置在封装件内,所述封装件含有可吸收所述被分析物的吸附剂材料。

16.根据权利要求15所述的阵列,其中所述阵列的所述感测元件设置在个人呼吸防护装置的空气净化滤筒内。

17.根据权利要求16所述的阵列,其中所述阵列的所述感测元件被设置为与所述空气净化滤筒的透明观察口相邻以便能够从所述滤筒的外部进行光学询问。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080032488.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top