[发明专利]用于形成金属线的蚀刻组合物

权利要求书

1.一种蚀刻组合物，所述组合物用于蚀刻由选自钛、钛合金、铝和铝合金组成的组中的至少一种制成的单层膜或多层膜，其中基于所述组合物的总量，所述组合物包含：

5～30wt％H₂O₂；

0.1～2wt％含氟化合物；

1～10wt％含有氨基和羧基的化合物；

0.1～5wt％硝酸盐化合物；和

余量水。

2.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，进一步包含0.01～5wt％环状胺化合物。

3.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中所述含氟化合物为能离解出氟离子或多原子氟离子的化合物，所述含氟化合物选自氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢钠、氟化氢钾、氟化氢铵，和氟化氢组成的组中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中所述含有氨基和羧基的化合物为选自丙氨酸化合物、氨基丁酸化合物、谷氨酸化合物、甘氨酸化合物、亚氨基二乙酸化合物、次氨基三乙酸化合物和肌氨酸化合物组成的组中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中所述硝酸盐化合物为选自硝酸铵、硝酸钠和硝酸钾组成的组中的至少一种。

6.根据权利要求2所述的蚀刻组合物，其中所述环状胺为选自吡咯烷、吡咯啉、吡咯、吲哚、吡唑、咪唑、嘧啶、嘌呤、吡啶和其衍生物组成的组中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，进一步包含一种有机酸，所述有机酸选自基丁酸，柠檬酸，甲酸，葡萄糖酸，乙醇酸，丙二酸，草酸和戊酸组成的组中的至少一种。