[发明专利]用于基材热处理的装置和处理室

权利要求书

1.一种用于平面基材(10)的热处理的处理室(20，21，21′)，具有用于在热处理过程中输送并存放该基材(10)的输送装置(25，25′)和用于对流加热或对流冷却该基材(10)的气体供给机构(30，30′)，其中该气体供给机构(30，30′)在靠近该基材(10)的区域内具有多个用于气体的出口孔(32，32′)，其特征是，该处理室(20，21，21′)具有用于有目的地抽排通过该气体供给机构(30，30′)被送入该处理室(20，21，21′)的气体的抽排机构(33，33′)。

2.根据权利要求1所述的处理室(20，21)，其特征是，至少其中几个所述出口孔(32)配有用于有目的地抽排从该出口孔(32)流出的气体的抽排罩(35)。

3.根据权利要求1或2所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该气体供给机构(30，30′)包括具有多个对准该基材(10)的喷嘴部(31，31′)的管状布气机构(36，36′)，所述出口孔(32，32′)设置在该喷嘴部的端头上。

4.根据权利要求3所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该管状布气机构(36，36′)和/或所述喷嘴部(31，31′)具有用于调整气体流动的可控阀门(44)。

5.根据权利要求3或4所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该喷嘴部(31，31′)的横截面(39)朝向该出口孔(32，32′)方向缩小。

6.根据权利要求3至5之一所述的处理室(20，21)，其特征是，该基材(10)平放在该输送装置(25)上，该管状布气机构(36)几乎平行于基材表面(10)设置，所述喷嘴部(31)近似垂直地从该管段(36)起朝向基材表面(10)突出，该抽排机构(33)呈细长的、沿管段(36)设置的抽排罩(35)的形式。

7.根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该处理室(20，21，21′)在该基材(10)的热处理过程中构成封闭的腔室。

8.根据权利要求7所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该气体供给机构(30，30′)构成一个封闭的气体供应循环系统(40，40′)的一部分。

9.根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该气体供给机构(30，30′)包括用于加热或冷却送至基材表面(10)的气体的换热器(42)。

10.根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该气体供给机构(30，30′)包括至少一个泵(37，37′)。

11.根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该气体供给机构(30，30′)包括干燥装置(43)和/或过滤装置用于干燥或者清洁送至基材表面(10)的气体。

12.根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该气体供给机构(30，30′)包括用于控制控制泵(37)的功率和/或用于调整在管状布气机构(36，36′)和/或喷嘴部(31，31′)内的气流的控制装置(50)。

13.根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该处理室(20，21，22)包括用于送入和送出该基材(10)的多个可封闭的开口(23a-23d)。

14.尤其是根据前述权利要求之一所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该处理室(20，21，21′)具有隔热屏罩(4)。

15.根据权利要求14所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该隔热屏罩以可气密封闭的外室(4)形式构成，该外室包围可气密封闭的内室(3)。

16.根据权利要求15所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该隔热屏罩由设置在该处理室(20，21)的壁(27)的区域内的温度调节机构构成。

17.根据权利要求16所述的处理室(20，21，21′)，其特征是，该温度调节机构由冷却通道或者加热通道的系统(7)构成。