[发明专利]用于破坏CO、VOC和卤化VOC的氧化催化剂和方法

权利要求书

1.一种沉积在基底上的用于破坏来自排放物流的CO和挥发性有机化合物，特别是卤化有机化合物的氧化催化剂，其中所述氧化催化剂包含：

至少两种铂族金属，其中一种包含钌或铂，

包含CeO₂和ZrO₂的固溶体的耐高温氧化物载体，其中所述耐高温金属氧化物包含10重量％至95重量％的氧化催化剂；以及

二氧化硅和氧化锡中的一种或两种，并且

其中所述基底优选具有蜂窝或整体式结构，且其中所述基底由选自堇青石、莫来石、铁-铬合金和不锈钢的材料制得。

2.根据权利要求1所述的氧化催化剂，其中所述两种铂族金属包含钌和铂，且钌和铂的比例为20∶1至1∶20。

3.根据权利要求1-2所述的氧化催化剂，其中所述耐高温氧化物载体通过与选自下组的一种或多种稀土金属氧化物共混而被稳定化：氧化镧、氧化铈、氧化钇、氧化镨、氧化钕以及它们的混合物。

4.根据权利要求1-3所述的氧化催化剂，其中所述氧化催化剂包含氧化锡，所述氧化锡的表面积为2m²/g至200m²/g，粒度为1至20微米，且氧化锡占氧化催化剂的5％至50％。

5.根据权利要求1-4所述的氧化催化剂，其中所述铂族金属以包含10至200g/cf(0.35g/L至7.1g/L)的负载量沉积在基底上。

6.根据权利要求1-5所述的氧化催化剂，其中所述氧化催化剂包含二氧化硅，其占氧化催化剂的5重量％至50重量％，所述二氧化硅选自无定形二氧化硅、沉淀的二氧化硅、分子筛、MCM-41、SBA-15以及它们的组合。

7.根据权利要求6所述的氧化催化剂，其中所述氧化催化剂包含二氧化硅，所述二氧化硅包括无定形二氧化硅，其具有大于200m²/g的表面积、大于100埃的孔直径和0.5-20微米的粒度。

8.制备沉积在权利要求1-7的基底上的用于破坏来自排放物流的CO和挥发性有机化合物、特别是卤化有机化合物的氧化催化剂的方法，该方法包括：

制备水性混合物浆料，所述水性混合物浆料包括CeO₂和ZrO₂的固溶体，氧化锡和二氧化硅中的一种或两种以形成混合物，其中水性混合物浆料与选自如下的粘合剂共混：胶体氧化铝、胶体二氧化硅、胶体二氧化钛、胶体氧化锆、胶体二氧化铈以及它们的混合物；

将混合物共混；

用共混的混合物涂布基底；

干燥和煅烧涂布的基底；

将包含铂和钌中至少一种的至少两种铂族金属前体材料沉积在煅烧的涂布基底上；以及

干燥和煅烧铂族金属涂布的基底。

9.制备在权利要求1-7的基底上的用于破坏来自排放物流的CO和挥发性有机化合物、特别是卤化有机化合物的氧化催化剂的方法，该方法包括：

将至少两种贵金属前体沉积在选自以下的至少一种组分：CeO₂和ZrO₂的固溶体，以及氧化锡和二氧化硅中的一种或两种上，以形成混合物；

将混合物共混；

用共混的混合物涂布基底；

干燥和煅烧涂布的基底。

10.用于处理包含CO和包括卤化VOC在内的VOC以及它们的混合物的气体流的方法，所述方法包括：

将包含CO和包括卤化VOC在内的VOC的气体流与氧合并；以及

使得合并的氧-气体流与在权利要求1-7的基底上的催化剂在200℃至500℃的温度下接触。

11.权利要求1-7所述的氧化催化剂用于破坏来自气体排放物流的挥发性有机化合物，特别是卤化有机化合物的用途，所述氧化催化剂特别地与高孔密度基底，例如200-400cpsi(30-60孔/平方厘米)基底一起使用，例如在同流换热式热氧化器中使用。

12.权利要求1-7所述的氧化催化剂用于破坏来自气体排放物流的挥发性有机化合物，特别是卤化有机化合物的用途，所述氧化催化剂特别地与小于200cpsi(30孔/平方厘米)的低孔密度基底，特别是小于100cpsi(15孔/平方厘米)的基底一起使用，例如在同流换热式热氧化器中使用。