[发明专利]氧化锆烧结体和氧化锆烧结体的烧结用混合体、烧结前成型体以及烧结前假烧体

权利要求书

1.一种氧化锆烧结体，其特征在于，

具有部分稳定化氧化锆来作为基体相，

含有磷(P)、砷(As)、锑(Sb)和铋(Bi)之中的至少1种元素，

含有相对于1摩尔氧化锆(IV)为4×10^-4摩尔～4×10^-2摩尔的所述元素。

2.根据权利要求1所述的氧化锆烧结体，其特征在于，所述元素是磷。

3.根据权利要求2所述的氧化锆烧结体，其特征在于，磷元素的含有率为0.01质量％～1质量％。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，还含有0.03质量％～3质量％的二氧化硅。

5.一种氧化锆烧结体，其特征在于，在将氧化锆烧结体在180℃、1MPa的条件下实施了24小时的低温劣化加速试验的情况下，

在所述低温劣化加速试验后的氧化锆烧结体的表面的X射线衍射图中，在来源于单斜晶的[11-1]峰产生的位置附近存在的峰的高度相对于在来源于正方晶的[111]峰产生的位置附近存在的峰的高度之比为1以下。

6.一种氧化锆烧结体，其特征在于，在将4mm×25mm×0.2mm的氧化锆烧结体的试片在180℃、1MPa的条件下实施了24小时的低温劣化加速试验的情况下，

除了所述试片的尺寸以外依据JIS R 1601标准测定的所述低温劣化加速试验后的所述试片的弯曲强度为50MPa以上。

7.根据权利要求5或6所述的氧化锆烧结体，其特征在于，具有在权利要求1～4的至少一项中记载的特征。

8.根据权利要求1～7的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，在1450℃～1650℃下被烧结了。

9.根据权利要求1～8的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，含有氧化钇，氧化钇的含有率为2摩尔％～5摩尔％。

10.根据权利要求1～9的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，作为牙科用补缀物使用。

11.根据权利要求1～10的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

在烧成面的X射线衍射图中，在来源于立方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度相对于在来源于正方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度之比为0.4以上，

在距烧成面的深度为100μm以上的区域的X射线衍射图中，在来源于立方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度相对于在来源于正方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度之比为0.3以下。

12.根据权利要求1～11的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

在磨削烧成面或露出面，使在X射线衍射图中在来源于立方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度相对于在来源于正方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度之比为0.3以下的面露出后进行了再烧成的情况下，

在再烧成面的X射线衍射图中，在来源于立方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度相对于在来源于正方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度之比为0.4以上。

13.根据权利要求12所述的氧化锆烧结体，其特征在于，在距所述再烧成面的深度为100μm以上的区域的X射线衍射图中，在来源于立方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度相对于在来源于正方晶的[200]峰产生的位置附近存在的峰的高度之比为0.3以下。