[发明专利]复合坩埚及其制造方法以及硅晶体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080037429.8 申请日: 2010-08-20
公开(公告)号: CN102471926A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 须藤俊明;吉冈拓麿;岸弘史;藤田刚司;神田稔;铃木光一;北原贤 申请(专利权)人: 日本超精石英株式会社
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C03B20/00;C30B15/10
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 日本秋田县*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 复合 坩埚 及其 制造 方法 以及 晶体
【权利要求书】:

1.一种复合坩埚,具有直筒部以及底部,是用于收容硅熔液的复合坩埚,其特征在于:具有由以氧化铝和氧化硅作为主成分的莫来石材料而成的坩埚本体和形成在上述坩埚本体的内表面侧的透明氧化硅玻璃层,其中,上述透明氧化硅玻璃层的厚度比上述坩埚本体的厚度薄。

2.根据权利要求1所述的复合坩埚,其特征在于:上述坩埚本体的厚度是5mm以上,透明氧化硅玻璃层的厚度是0.5mm以上且薄于上述坩埚本体的厚度。

3.根据权利要求1所述的复合坩埚,其特征在于:上述坩埚本体所包含的铝的浓度,具有从外表面侧向内表面侧降低的浓度坡度。

4.根据权利要求1所述的复合坩埚,其特征在于:还包括设置在上述坩埚本体和上述透明氧化硅玻璃层之间的含有多个微小气泡的不透明氧化硅玻璃层。

5.一种复合坩埚的制造方法,是具有直筒部以及底部且用于收容硅熔液的复合坩埚的制造方法,其特征在于:通过粉浆浇铸法或者电弧熔融法形成由以氧化铝和氧化硅为主成分的莫来石材料而成的坩埚本体,在上述坩埚本体的内表面侧形成透明氧化硅玻璃层。

6.根据权利要求5所述的复合坩埚的制造方法,其特征在于:通过喷涂法形成上述透明氧化硅玻璃层。

7.根据权利要求6所述的复合坩埚的制造方法,其特征在于:在形成上述透明氧化硅玻璃层之前,通过喷涂法在上述坩埚本体的内表面侧形成含有多个微小气泡的不透明氧化硅玻璃层。

8.根据权利要求5所述的复合坩埚的制造方法,其特征在于:通过电弧熔融法形成上述透明氧化硅玻璃层。

9.根据权利要求8所述的复合坩埚的制造方法,其特征在于:在形成上述透明氧化硅玻璃层的同时,通过电弧熔融法形成设置在上述坩埚本体和上述透明氧化硅玻璃层之间的含有多个微小气泡的不透明氧化硅玻璃层。

10.根据权利要求5所述的复合坩埚的制造方法,其特征在于:将包含上述透明氧化硅玻璃层的氧化硅玻璃成形体嵌入到上述坩埚本体中。

11.根据权利要求10所述的复合坩埚的制造方法,其特征在于:上述氧化硅玻璃成形体,具有外侧为不透明氧化硅玻璃层且内侧为上述透明氧化硅玻璃层的两层结构,通过在上述坩埚本体中嵌入该氧化硅玻璃成形体来形成上述坩埚本体与上述透明氧化硅玻璃层之间的含有多个微小气泡的不透明氧化硅玻璃层。

12.一种硅晶体的制造方法,是在复合坩埚内的硅熔液浸没晶种,并缓慢提拉该晶种而生长硅晶体的制造方法,其特征在于:上述复合坩埚具有直筒部以及底部,还具有由以氧化铝和氧化硅作为主成分的莫来石材料而成的坩埚本体和形成上述坩埚本体的内表侧的透明氧化硅玻璃层,上述透明氧化硅玻璃层的厚度比上述坩埚本体的厚度薄。

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