[发明专利]烃合成反应装置、烃合成反应系统以及液体烃的回收方法有效

专利信息
申请号: 201080038000.0 申请日: 2010-08-12
公开(公告)号: CN102575173A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 大西康博 申请(专利权)人: 日本石油天然气·金属矿物资源机构;国际石油开发帝石株式会社;吉坤日矿日石能源株式会社;石油资源开发株式会社;克斯莫石油株式会社;新日铁工程技术株式会社
主分类号: C10G2/00 分类号: C10G2/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 合成 反应 装置 系统 以及 液体 回收 方法
【权利要求书】:

1.一种烃合成反应装置,其通过基于以一氧化碳气体和氢气为主成分的合成气与使固体的催化剂粒子悬浮在液体中而形成的浆料接触的费-托合成反应来合成烃,其具备:

反应容器,其通过所述费-托合成反应来合成液体烃和气体烃;

流路,使所述气体烃从所述反应容器流向下游;

第1冷却部,其配设在所述流路中,将流过该流路的气体烃冷却;

第2冷却部,其在所述流路中配设在所述第1冷却部的下游;

第1分离部,其在所述流路中配设在所述第1冷却部与所述第2冷却部之间,将被所述第1冷却部冷凝的液体烃从气体烃中分离;

和第2分离部,其将被所述第2冷却部冷凝的液体烃从气体烃中分离,

所述第1冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到在所述流路内所述气体烃中的蜡馏分发生冷凝的冷凝点以下且超过在所述流路内所述蜡馏分发生凝固的凝固点的温度范围,

所述第2冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到低于通过所述第1冷却部将气体烃冷却的温度且超过在所述流路内所述气体烃中的中间馏分发生凝固的凝固点的温度范围。

2.根据权利要求1所述的烃合成反应装置,其中,

所述第1冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到120℃以下且110℃以上,

所述第2冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到低于通过所述第1冷却部将气体烃冷却的温度且40℃以上。

3.根据权利要求2所述的烃合成反应装置,其中,所述第2冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到75℃以下且40℃以上。

4.一种烃合成反应系统,其包括:

权利要求1~3中任一项所述的烃合成反应装置;

合成气生成单元,其对烃原料进行重整而生成所述合成气,并将该合成气供给到所述反应容器;

和产品精制单元,其从所述液体烃中精制液体燃料基材。

5.一种液体烃的回收方法,其在烃合成反应装置中将流过流路的气体烃作为液体烃而回收,所述烃合成反应装置具备:

反应容器,其通过基于以一氧化碳气体和氢气为主成分的合成气与使固体的催化剂粒子悬浮在液体中而形成的浆料接触的费-托合成反应来合成液体烃和气体烃;

和所述流路,其使所述气体烃从所述反应容器流向下游,

其中,所述烃合成反应装置设为以下构成,具备:第1冷却部,其配设在所述流路中,将流过该流路的气体烃冷却;和第2冷却部,其在所述流路中配设在所述第1冷却部的下游,

所述回收方法具备下述工序:通过所述第1冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到在所述流路内所述气体烃中的蜡馏分发生冷凝的冷凝点以下且超过在所述流路内所述蜡馏分发生凝固的凝固点的温度范围的工序;

在所述流路中在所述第1冷却部与所述第2冷却部之间将被所述第1冷却部冷凝的液体烃从气体烃中分离的工序;

通过所述第2冷却部将流过所述流路的气体烃冷却到低于通过所述第1冷却部将气体烃冷却的温度且超过在所述流路内所述烃中的中间馏分发生凝固的凝固点的温度范围的工序;

和将被所述第2冷却部冷凝的液体烃从气体烃中分离的工序。

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