[发明专利]环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法

权利要求书

1.一种下述式(1)所示的环状化合物，

式(1)中，各L独立地为选自由单键，碳原子数1～20的直链状或支链状的亚烷基，碳原子数3～20的环亚烷基，碳原子数6～24的亚芳基，-O-，-OC(＝O)-，-OC(＝O)O-，-N(R⁵)-C(＝O)-、其中R⁵为氢或碳原子数1～10的烷基，-N(R⁵)-C(＝O)O-、其中R⁵与前述同义，-S-，-SO-，-SO₂-和它们的任意组合组成的组中的二价有机基团；各R¹独立地为碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～20的环烷基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～20的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基、卤素、羧基、碳原子数2～20的酰基、碳原子数1～20的烷基甲硅烷基、或氢原子；其中，至少1个R¹为碳原子数2～20的酰基，且其他的至少1个R¹为氢原子；各R’独立地为碳原子数2～20的烷基或下述式所示的芳基；m为1～4的整数，

式中，R⁴为碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～20的环烷基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～20的烷氧基、氰基、硝基、杂环基、卤素、羧基、羟基或碳原子数1～20的烷基甲硅烷基，p为0～5的整数。

2.根据权利要求1所述的环状化合物，其为下述式(2)所示的化合物，

式(2)中，R¹、R⁴、p、m与前述同义，X₂为氢或卤素原子，m₅为0～3的整数，m+m₅＝4。

3.根据权利要求1或2所述的环状化合物，其分子量为800～5000。

4.一种权利要求1～3中任一项所述的环状化合物的制造方法，其包括：使选自由醛性化合物(A1)组成的组中的1种以上化合物与选自由酚性化合物(A2)组成的组中的1种以上的化合物发生缩合反应而得到环状化合物(A)的工序；和，使该环状化合物(A)与选自由酰卤(A3)组成的组中的1种以上化合物发生脱卤化氢反应的工序。

5.根据权利要求4所述的制造方法，其中，所述醛性化合物(A1)为具有1～4个甲酰基的、碳原子数为2～59的化合物，所述酚性化合物(A2)为具有1～3个酚性羟基的、碳原子数为6～15的化合物。

6.根据权利要求4或5所述的制造方法，其中，所述环状化合物(A)的分子量为700～5000。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的制造方法，通过所述环状化合物(A)与选自由酰卤(A3)组成的组中的1种以上化合物的脱卤化氢反应，在不使所述环状化合物(A)中的至少1个酚性羟基发生变化的情况下，将其他的至少1个酚性羟基转化为烷羰基氧基。

8.一种辐射敏感组合物，其含有权利要求1～3中任一项所述的环状化合物和溶剂。

9.根据权利要求8所述的辐射敏感组合物，其由1～80重量％的固体成分和20～99重量％的溶剂组成。

10.根据权利要求8或9所述的辐射敏感组合物，其中，所述环状化合物为固体成分总重量的50～99.999重量％。

11.根据权利要求8～10中任一项所述的辐射敏感组合物，其还含有产酸剂(C)，所述产酸剂(C)通过选自由可见光线、紫外线、准分子激光、电子束、超紫外线(EUV)、X射线和离子束组成的组中的任意一种辐射线的照射而直接或间接地产酸。

12.根据权利要求8～11中任一项所述的辐射敏感组合物，其还含有酸交联剂(G)。

13.根据权利要求8～12中任一项所述的辐射敏感组合物，其还含有酸扩散控制剂(E)。