[发明专利]具有饱和芯的改善故障限流器有效

专利信息
申请号: 201080038695.2 申请日: 2010-08-31
公开(公告)号: CN102741953A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: S·沃尔福斯;Y·耶舒伦;A·弗里德曼;V·罗森施泰因;Z·巴尔-哈伊姆 申请(专利权)人: 巴尔伊兰研究与发展有限公司;里克尔制冷和真空系统有限责任合伙公司
主分类号: H01F29/14 分类号: H01F29/14;H02H9/02;H01F3/10;H01F38/02;G05F3/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;夏青
地址: 以色列*** 国省代码: 以色列;IL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 饱和 改善 故障 限流
【权利要求书】:

1.一种用于交流系统的三相限流装置(30),所述三相限流装置包括:

AC磁路,对三相AC电源的每一相具有至少一个AC线圈(35R1,35S1,35T1),缠绕在可饱和铁磁芯上并且被配置为使用于每一相的相应AC线圈经受共同磁通量,以及

DC磁路(34a,34b),用于在正常状态下将所述AC磁路偏置至饱和;

所述AC线圈被配置为在使用时与负载串联连接,并且在所述AC电源的交替半个周期期间,至少一个所述AC线圈产生与所述DC磁路的磁场相反的磁场;并且

用于每一相的所述AC线圈(35R,35S,35T)被配置为使得至少一个所述AC线圈相对于用于每一相的所述AC线圈中的其它AC线圈表现出不平衡磁阻抗。

2.根据权利要求1所述的三相限流装置,其中所述AC磁路是开放的并且所述DC磁路是闭合的。

3.根据权利要求1所述的三相限流装置,其中所述AC磁路是开放的并且所述DC磁路是开放的。

4.根据权利要求1所述的三相限流装置,其中所述AC磁路是闭合的并且所述DC磁路是开放的。

5.根据权利要求1所述的三相限流装置,其中所述AC磁路是闭合的并且所述DC磁路是闭合的。

6.根据权利要求1到5中任一项所述的三相限流装置,其中所述DC磁路包括围绕所述磁路的一个所述柱围绕的至少一个DC偏置线圈(34a,34b)。

7.根据权利要求1到6中任一项所述的三相限流装置,其中:

DC偏置柱在其相对柱的中间耦合至所述磁路;并且

所述至少一个DC偏置线圈(34a,34b)围绕所述DC偏置柱缠绕。

8.根据权利要求6或7所述的三相限流装置,其中所述至少一个DC偏置线圈(34a,34b)为超导线圈。

9.根据权利要求1到8中任一项所述的三相限流装置,其中所述磁偏置装置包括永磁芯。

10.根据权利要求1到9中任一项所述的三相限流装置,其中所述AC线圈缠绕不同匝数,以实现不对称磁阻抗。

11.根据权利要求1到10中任一项所述的三相限流装置,其中所述AC线圈布置在所述柱的不同部分上,以实现不对称磁阻抗。

12.根据权利要求1到11中任一项所述的三相限流装置,其中所述AC线圈具有不同的线圈几何形状,以实现不对称磁阻抗。

13.根据权利要求1到12中任一项所述的三相限流装置,其中与不同相相关的至少两个所述AC线圈至少部分交叠。

14.根据权利要求1到13中任一项所述的三相限流装置,其中至少一个相应去耦合回路缠绕在每个AC电路柱上,以便至少部分抑制所述AC线圈之间的通量传输,并且从而控制AC线圈之间的交互磁阻抗。

15.根据权利要求14所述的三相限流装置,其中所述去耦合回路用作短路线圈。

16.根据权利要求14所述的三相限流装置,其中所述去耦合回路连接至可变外部负载。

17.根据权利要求14所述的三相限流装置,其中去耦合线圈被构建为允许在使用期间改变它们的匝数和/或截面。

18.根据权利要求1或2所述的三相限流装置(30),包括:

单个磁芯(31),形成用于至少一个DC偏置电路生成的通量的闭合磁路,所述DC偏置电路适合在正常和适当超载状态下将两个相对柱(33a,33b)保持为饱和状态,以及

三个AC线圈(35R,35S,35T),每个所述AC线圈用于相应相(R,S,T)并且围绕所述磁芯(31)的所述两个柱(33a,33b)缠绕,使得所述磁芯表现为用于AC电流引起的通量的开放磁路,并且在正常和适当超载状态下提供低阻抗;

所述AC线圈设置在所述饱和芯(31)上,使得对于在三相的任意组合中同时短路至地的情况,AC电流引起的磁场使得所述相应柱(33a,33b)或所述相应柱一部分不再饱和,从而所述相应AC线圈的阻抗自动增加以提供所需的限流能力。

19.根据权利要求18所述的装置,其中所述DC偏置电路包括缠绕在所述磁芯(31)的一个或多个柱(32a,32b)上的至少一个DC偏置线圈(34a,34b)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴尔伊兰研究与发展有限公司;里克尔制冷和真空系统有限责任合伙公司,未经巴尔伊兰研究与发展有限公司;里克尔制冷和真空系统有限责任合伙公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080038695.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top