[发明专利]平面显示器装置的玻璃基板用清洁剂组成物

说明书

技术领域

本发明涉及一种平面显示器装置的玻璃基板用清洁剂组成物，其为低发泡性水性(aqueous)清洁剂。

本申请请求2009年10月30日提出的韩国专利申请第10-2009-0104416号(其在此借引用方式全部并入本申请)的权益。

背景技术

类似于半导体装置，FPD(flat panel display device)使用薄膜形成、曝光、蚀刻等制造。然而在各制程中，大小为1微米或更小的微小粒子(Particle)(如各种有机或无机材料)可能附着在基板表面而不希望地造成污染。如果使附着有这些粒子的基板接受后续程序，则可能发生薄膜的针孔或孔蚀、或线路的中断或桥接，而不希望地降低制造良率。

因此在各程序之间实行用于去除污染物的清洁程序，且因此已提议多种清洁剂。例如韩国未审查专利第2003-0039408号公开了一种水性清洁剂，其包含由附加环氧烷的芳族醇所组成的非离子型表面活性剂、与由附加环氧烷的烃醇(hydrocarbon alcohol)所组成的非离子型表面活性剂。然而此清洁剂因为使用非离子型表面活性剂(其为环氧烷与长链烃的加成物)，则在进行喷洒或其它程序时可能起泡而不利。另外，韩国专利第10-0574607号公开了一种酸性pH条件清洁液，其包含去离子水、有机化合物、与铵化合物。然而此清洁液为酸性，且遗憾地在清洁程序的起初阶段无法充分地去除大小为1微米或更小的微小粒子(Particle)，如有机或无机材料。另外，日本未审查专利第7-133496号公开了一种清洁剂组成物，其包含由附加环氧烷的长链醇所组成的非离子型表面活性剂、短链二醇醚溶剂、长链二醇醚溶剂、链烷烃系或烯烃系烃、与水。然而在使用烃溶剂时可能发生易燃性及干燥问题。此外，在热烷基的碳数量增加的情形中，清洁剂的黏度可能增加，且其在水中的溶解度可能降低。

发明内容

因而本发明提供一种FPD的玻璃基板用清洁剂组成物，其为可从玻璃基板表面完全地去除污染物，并因此增强清洁效果及生产力的低发泡性水性清洁剂。

本发明的一个方面提供一种FPD的玻璃基板用清洁剂组成物，其pH为12～14，且包含：由下式1表示的包含附加环氧烷的萜型油的非离子型表面活性剂、多元醇系化合物、碱金属氢氧化物、及水：

<式1>

其中，AO为氧化乙烯基、氧化丙烯基、或聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段共聚物，及n为1至40。

依照本发明，清洁剂组成物从FPD的玻璃基板表面去除有机污染物及粒子的性能优异。又依照本发明的清洁剂组成物在完成淋洗后不残留残渣，且包括大量去离子水，因此易于处理及环境友善。

附图说明

图1示出了使用实施例9的清洁剂组成物清洁前的接触角的照片；及

图2示出了使用实施例9的清洁剂组成物清洁后的接触角的照片。

具体实施方式

以下详述本发明。

依照本发明，FPD的玻璃基板用清洁剂组成物的pH为12～14，且包括非离子型表面活性剂、多元醇系化合物、碱金属氢氧化物、及水。

在依照本发明所定的FPD的玻璃基板用组成物中，非离子型表面活性剂为由下式1表示的包含附加环氧烷的萜型油的非离子型表面活性剂。

<式1>

在式1中，AO为氧化乙烯基、氧化丙烯基、或聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段共聚物，及n为1至40。

由式1表示的非离子型表面活性剂在喷洒程序中产生少量泡沫，如此易于从玻璃基板去除污染物。

由式1表示的非离子型表面活性剂，以按组成物的总重量计为0.01～5重量％，较佳为0.1～2重量％的量使用。如果此成分的量小于以上之下限，则清洁液无法快速地渗透至玻璃基板表面与污染物(如粒子)间的界面中，而不希望地使去除污染物的能力退化。相反地，如果其量超过以上之上限，则透湿性(wet permeability)变强，且清洁剂组成物可能残留在玻璃基板表面上。又，即使是在已完成淋洗程序之后，表面活性剂仍可能残留在基板上。另因为清洁剂组成物的黏度可能增加，所以产生的泡沫量可能变大，而不希望地使程序作业困难。

由式1表示的非离子型表面活性剂的实施例包括市售产品，如Rhodoclean ASP、Rhodoclean MSC、Rhodoclean EFC、与Rhodoclean HP(均得自Rhodia)。